- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07F - Composés acycliques, carbocycliques ou hétérocycliques contenant des éléments autres que le carbone, l'hydrogène, les halogènes, l'oxygène, l'azote, le soufre, le sélénium ou le tellure
- C07F 7/22 - Composés de l'étain
Détention brevets de la classe C07F 7/22
Brevets de cette classe: 612
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Gelest, Inc. | 155 |
39 |
| Inpria Corporation | 131 |
36 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4596 |
35 |
| Entegris, Inc. | 1913 |
35 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 8990 |
24 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148765 |
13 |
| Adeka Corporation | 1368 |
10 |
| Kyoto University | 2840 |
10 |
| Merck Patent GmbH | 5758 |
9 |
| Korea Research Institute of Chemical Technology | 1408 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9105 |
6 |
| The Johns Hopkins University | 5746 |
6 |
| Alliance for Sustainable Energy, LLC | 827 |
6 |
| Galata Chemicals LLC | 50 |
6 |
| Seastar Chemicals ULC | 8 |
6 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 45590 |
5 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5764 |
5 |
| Northwestern University | 3444 |
5 |
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2712 |
5 |
| Florida State University Research Foundation, Inc. | 777 |
5 |
| Autres propriétaires | 338 |