- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
Détention brevets de la classe C08F 20/32
Brevets de cette classe: 84
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Koc Solution Co., Ltd. | 65 |
6 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 30967 |
4 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 34230 |
3 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3438 |
3 |
| Sekisui Plastics Co., Ltd. | 333 |
3 |
| Mighty Buildings, Inc. | 65 |
3 |
| Countertrace LLC | 17 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17561 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 29228 |
2 |
| Wisconsin Alumni Research Foundation | 3864 |
2 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4485 |
2 |
| JSR Corporation | 2508 |
2 |
| Adeka Corporation | 1359 |
2 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1538 |
2 |
| Agc, Inc. | 4744 |
2 |
| Honeywell International Inc. | 13564 |
1 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42118 |
1 |
| DSM IP Assets B.V. | 5659 |
1 |
| Rohm and Haas Company | 2906 |
1 |
| Dow Global Technologies LLC | 10354 |
1 |
| Autres propriétaires | 38 |