- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
Détention brevets de la classe C08F 20/32
Brevets de cette classe: 87
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Koc Solution Co., Ltd. | 65 |
6 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33168 |
5 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 37467 |
3 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3560 |
3 |
| Sekisui Plastics Co., Ltd. | 329 |
3 |
| Mighty Buildings, Inc. | 66 |
3 |
| Countertrace LLC | 20 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17778 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 30126 |
2 |
| Wisconsin Alumni Research Foundation | 3930 |
2 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4684 |
2 |
| Agency for Science, Technology and Research | 3682 |
2 |
| JSR Corporation | 2557 |
2 |
| Adeka Corporation | 1371 |
2 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1544 |
2 |
| Agc, Inc. | 5192 |
2 |
| Honeywell International Inc. | 13583 |
1 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46813 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5887 |
1 |
| DSM IP Assets B.V. | 5455 |
1 |
| Autres propriétaires | 39 |