- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
Détention brevets de la classe C08F 20/32
Brevets de cette classe: 88
Historique des publications depuis 10 ans
|
2
|
6
|
11
|
10
|
9
|
8
|
4
|
8
|
4
|
2
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Koc Solution Co., Ltd. | 65 |
6 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33792 |
5 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38470 |
3 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3614 |
3 |
| Sekisui Plastics Co., Ltd. | 323 |
3 |
| Mighty Buildings, Inc. | 65 |
3 |
| Countertrace LLC | 21 |
3 |
| Resonac Corporation | 3476 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17929 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 30458 |
2 |
| Wisconsin Alumni Research Foundation | 3884 |
2 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4711 |
2 |
| Agency for Science, Technology and Research | 3718 |
2 |
| JSR Corporation | 2547 |
2 |
| Adeka Corporation | 1375 |
2 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1558 |
2 |
| Agc, Inc. | 5463 |
2 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48140 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6048 |
1 |
| DSM IP Assets B.V. | 5381 |
1 |
| Autres propriétaires | 38 |