- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 7/34 - Composés organiques contenant du soufre
Détention brevets de la classe C11D 7/34
Brevets de cette classe: 263
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30294 |
34 |
| BASF SE | 21150 |
13 |
| Arkema France | 4188 |
11 |
| Entegris, Inc. | 1985 |
11 |
| The Procter & Gamble Company | 21900 |
10 |
| Fujimi Incorporated | 796 |
10 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 341 |
8 |
| Life Technologies Corporation | 3386 |
7 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1548 |
7 |
| Kao Corporation | 5034 |
6 |
| Versum Materials US, LLC | 669 |
6 |
| Dow Global Technologies LLC | 10812 |
5 |
| Ecolab USA Inc. | 5739 |
4 |
| FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd. | 20 |
4 |
| LTC Co., Ltd. | 33 |
4 |
| BASF (China) Co., Ltd. | 879 |
4 |
| Tokyo Electron Limited | 13561 |
3 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1409 |
3 |
| Eastman Chemical Company | 2084 |
3 |
| Ecolab Inc. | 385 |
3 |
| Autres propriétaires | 107 |