- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 7/34 - Composés organiques contenant du soufre
Détention brevets de la classe C11D 7/34
Brevets de cette classe: 258
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 29696 |
29 |
| BASF SE | 21017 |
13 |
| Arkema France | 4168 |
12 |
| The Procter & Gamble Company | 22006 |
11 |
| Entegris, Inc. | 1898 |
10 |
| Fujimi Incorporated | 759 |
10 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 333 |
8 |
| Life Technologies Corporation | 3318 |
7 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1552 |
7 |
| Kao Corporation | 4984 |
6 |
| Versum Materials US, LLC | 650 |
6 |
| Ecolab Inc. | 406 |
4 |
| Ecolab USA Inc. | 5528 |
4 |
| FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd. | 20 |
4 |
| BASF (China) Co., Ltd. | 850 |
4 |
| Tokyo Electron Limited | 12979 |
3 |
| Dow Global Technologies LLC | 10437 |
3 |
| Eastman Chemical Company | 2207 |
3 |
| Fluid Energy Group Ltd. | 59 |
3 |
| LTC Co., Ltd. | 30 |
3 |
| Autres propriétaires | 108 |