- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 3/58 - Dépôt électrochimiqueBains utilisés à partir de solutions d'alliages contenant plus de 50% en poids de cuivre
Détention brevets de la classe C25D 3/58
Brevets de cette classe: 197
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| JX Nippon Mining & Metals Corporation | 1502 |
17 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 412 |
16 |
| Atotech Deutschland GmbH | 564 |
15 |
| BASF SE | 20616 |
11 |
| Umicore Galvanotechnik GmbH | 57 |
9 |
| Bridgestone Corporation | 7199 |
5 |
| DIPSOL Chemicals Co., Ltd. | 63 |
5 |
| Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 168 |
5 |
| The Swatch Group Research and Development Ltd | 817 |
5 |
| The Royal Mint Limited | 21 |
4 |
| Dow Global Technologies LLC | 10247 |
3 |
| Colorado State University Research Foundation | 698 |
3 |
| G. Aliprandini | 4 |
3 |
| Ishihara Chemical Co., Ltd. | 64 |
3 |
| 3m Innovative Properties Company | 17865 |
2 |
| The Furukawa Electric Co., Ltd. | 3610 |
2 |
| Changzhou University | 177 |
2 |
| China Banknote Printing and Minting Corporation | 100 |
2 |
| Daiwa Fine Chemicals Co., Ltd. (laboratory) | 5 |
2 |
| Electricite de France | 720 |
2 |
| Autres propriétaires | 81 |