- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/30 - PSM alternés, p. ex. PSM de Levenson-ShibuyaLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/30
Brevets de cette classe: 51
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49440 |
15 |
| Hoya Corporation | 2398 |
7 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6173 |
5 |
| Micron Technology, Inc. | 27932 |
3 |
| Seagate Technology LLC | 3974 |
3 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 4282 |
3 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 159755 |
2 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 39307 |
2 |
| SK Hynix Inc. | 12769 |
2 |
| ASML Netherlands B.V. | 8049 |
2 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44771 |
1 |
| Beijing BOE Display Technology Co., Ltd. | 3024 |
1 |
| Newport Fab, LLC | 161 |
1 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1623 |
1 |
| Shanghai Huali Microelectronics Corporation | 165 |
1 |
| Hitachi High-Tech Corporation | 6002 |
1 |
| Toppan Photomask Co., Ltd. | 33 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |