• Sections
  • H - Électricité
  • H01L - Dispositifs à semi-conducteurs non couverts par la classe
  • H01L 21/225 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire en utilisant la diffusion dans ou hors d'un solide, à partir d'une ou en phase solide, p. ex. une couche d'oxyde dopée

Détention brevets de la classe H01L 21/225

Brevets de cette classe: 1560

Historique des publications depuis 10 ans

230
206
179
158
111
76
65
76
58
14
2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024 2025 2026

Propriétaires principaux

Proprétaire
Total
Cette classe
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
47071
168
International Business Machines Corporation
62148
125
Texas Instruments Incorporated
19614
61
Fuji Electric Co., Ltd.
5373
53
Infineon Technologies AG
8380
50
United Microelectronics Corp.
4425
35
Applied Materials, Inc.
19938
34
Infineon Technologies Austria AG
2289
31
Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation
1739
31
Hitachi Chemical Company, Ltd.
2279
30
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc.
6398
28
Intel Corporation
46673
25
Samsung Electronics Co., Ltd.
153093
24
Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation
1033
24
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
1542
24
Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences
1420
21
Micron Technology, Inc.
27238
19
Screen Holdings Co., Ltd.
3086
19
Mitsubishi Electric Corporation
47522
18
Toray Industries, Inc.
7032
17
Autres propriétaires 723