Abrégé

In order to prevent long down-time that occurs with unexpected material depletion, an inline tin stream monitor (ITSM) system precisely measures the tin amount introduced by an in-line refill system and precisely estimates remaining runtime by measuring pressure level changes before and after in-line refill.

Classes IPC  ?

• G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet

Abrégé

A behavior recognition device for recognizing behaviors of a semiconductor manufacturing apparatus includes a storage device and a control unit. The storage device is configured to store log data of the semiconductor manufacturing apparatus. The control unit is cooperatively connected to the storage device, and configured to build a transition state model based on the log data to analyze behaviors related to wafer transfer sequences and manufacturing operations of the semiconductor manufacturing apparatus.

Classes IPC  ?

• G05B 19/4099 - Usinage de surface ou de courbe, fabrication d'objets en trois dimensions 3D, p. ex. fabrication assistée par ordinateur
• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

Abrégé

A semiconductor device is disclosed. The semiconductor device includes a first substrate. The first substrate includes a first dielectric layer, and a vertical conductive area, where the vertical conductive area includes at least two vertical conductive structures extending through the first dielectric layer, where each line segment of a non-square quadrilateral contacts at least one of the at least two vertical conductive structures. The vertical conductive area also includes a continuous conductive guard ring structure in the first dielectric layer, where the continuous conductive guard ring structure surrounds the at least two vertical conductive structures. The semiconductor device also includes a second substrate, including a first conductor, and a second conductor, where the first conductor of the second substrate is electrically connected to at least one of the at least two vertical conductive structures of the first substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

Abrégé

Field effect transistors and method of making. The field effect transistor includes a pair of active regions over a channel layer, a channel region formed in the channel layer and located between the pair of active regions, a pair of contact via structures electrically connected to the pair of active regions, and a lower passivation protection layer. The lower passivation protection layer extends over a top surface of an end portion of the channel layer, a side surface of the end portion of the channel layer, and a side surface of a gate dielectric layer disposed under the channel layer.

Classes IPC  ?

• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 99/00 - Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe

Abrégé

A method of manufacturing a semiconductor device includes applying a polymer mixture over a substrate, exposing and developing at least a portion of the polymer mixture to form a developed dielectric, and curing the developed dielectric to form a dielectric layer. The polymer mixture includes a polymer precursor, a photosensitizer, and a solvent. The polymer precursor may be a polyamic acid ester.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
• G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
• G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
• H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
• H01L 23/538 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre la structure d'interconnexion entre une pluralité de puces semi-conductrices se trouvant au-dessus ou à l'intérieur de substrats isolants
• H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs différents groupes principaux de la même sous-classe , , , , ou

Abrégé

The present disclosure relates to a memory device that includes a bottom electrode, a data storage structure overlying the bottom electrode, a top electrode overlying the data storage structure, a mask overlying the top electrode, and a sidewall spacer extending alongside the data storage structure and alongside the mask. The sidewall spacer extends to a height above an upper surface of the mask. A top electrode via (TEVA) extends through the mask to the top electrode and extends into the sidewall spacer, where a first curved portion of the sidewall spacer extends along a top surface of the mask and is spaced apart from the TEVA.

Classes IPC  ?

• H10N 70/00 - Dispositifs à l’état solide n’ayant pas de barrières de potentiel, spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la production d'oscillations ou à la commutation
• H10N 70/20 - Dispositifs de commutation multistables, p. ex. memristors

Abrégé

A semiconductor device includes a semiconductor die. The semiconductor die includes a substrate including at least one active component, an interconnect disposed over and electrically coupled to the at least one active component, and at least one first thermal control element disposed inside the interconnect and thermally coupled to the at least one active component. The at least one active component is surrounded by the at least one first thermal control element in a vertical projection along a stacking direction of the substrate and the interconnect.

Classes IPC  ?

• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

Abrégé

A method for manufacturing a semiconductor device is provided. A gate oxide layer is formed over a high-voltage N-type well region, an N-type well region and a P-type well region. The gate oxide layer includes a first layer portion and a second layer portion. The first and second layer portions have different thicknesses. A main gate is formed on the first layer portion and the second layer portion. At least one split gate is formed on the second layer portion, and the main gate and the split gate extend along an interface between the high-voltage N-type well region and the P-type well region. An inter-level dielectric (ILD) layer is formed over the main gate and the split gate. A plurality of connecting features penetrating the ILD layer to contact the main gate and the split gate are formed. An electrode is formed to contact the connecting features.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A memory device is provided. The memory device includes a plurality of memory cells arranged in a matrix of a plurality of rows and a plurality of columns. A first column of the plurality of columns of the matrix includes a first plurality of memory cells of the plurality of memory cells, a first pair of bit lines connected to each of the first plurality of bit cells, and a second pair of bit lines connectable to the first pair of bit lines through a plurality of switches.

Classes IPC  ?

• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• G11C 7/12 - Circuits de commande de lignes de bits, p. ex. circuits d'attaque, de puissance, de tirage vers le haut, d'abaissement, circuits de précharge, circuits d'égalisation, pour lignes de bits

Abrégé

A method of an interconnect structure includes the following steps. A first etching stop layer, a first dielectric layer, a second etching stop layer, an insert layer and a second dielectric layer are deposited over the second etching stop layer are deposited over a substrate. The second dielectric layer, the insert layer, the second etching stop layer, the first dielectric layer and the first etching stop layer are patterned thereby forming a trench opening and a via hole. A conductive feature is filled in the trench opening and the via hole thereby forming a conductive line in the second dielectric layer and the insert layer and a via in the first etching stop layer and the first dielectric layer. A material of the insert layer is different from the second dielectric layer and the second etching stop layer.

Classes IPC  ?

• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion

Abrégé

Disclosed herein are related to operating a memory system including memory banks and buffers. Each buffer may perform a write process to write data to a corresponding memory bank. In one aspect, the memory system includes a buffer controller including a queue register, a first pointer register, a second pointer register, and a queue controller. In one aspect, the queue register includes entries, where each entry may store an address of a corresponding memory bank. The first pointer register may indicate a first entry storing an address of a memory bank, on which the write process is predicted to be completed next. The second pointer register may indicate a second entry to be updated. The queue controller may configure the queue register according to the first pointer register and the second pointer register, and configure one or more buffers to perform the write process, according to the entries.

Classes IPC  ?

• G11C 7/22 - Circuits de synchronisation ou d'horloge pour la lecture-écriture [R-W]Générateurs ou gestion de signaux de commande pour la lecture-écriture [R-W]
• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S

Abrégé

A method includes: forming a bottom electrode over a substrate; depositing a first seed layer over the bottom electrode; performing a first surface treatment on the first seed layer to convert a crystal phase of the first seed layer; depositing a dielectric layer over the bottom electrode adjacent to the first seed layer; depositing an upper layer over the dielectric layer; and performing a thermal operation on the dielectric layer subsequent to the first surface treatment to thereby convert the dielectric layer into a ferroelectric layer.

Classes IPC  ?

• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H10B 51/30 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par la région noyau de mémoire

Abrégé

In some aspects of the present disclosure, a memory array structure is disclosed. In some embodiments, the memory array structure includes a word array. In some embodiments, the word array stores an N-bit word. In some embodiments, the word array includes a plurality of first memory structures and a plurality of second memory structures. In some embodiments, each first memory structure includes a first transistor and a first memory element. In some embodiments, each second memory structure includes a second transistor and a plurality of second memory elements, each second memory element includes a first end and a second end, the first end of each second memory element is coupled to a corresponding bit line, and the second end of each second memory element is coupled to a first end of the second transistor.

Classes IPC  ?

• G11C 7/16 - Emmagasinage de signaux analogiques dans des mémoires numériques utilisant une disposition comprenant des convertisseurs analogiques/numériques [A/N], des mémoires numériques et des convertisseurs numériques/analogiques [N/A]
• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• H03M 1/12 - Convertisseurs analogiques/numériques

Abrégé

A semiconductor package and a method of forming the same are provided. The semiconductor package includes a package substrate and a semiconductor device mounted on the surface of the package substrate. A first ring is disposed over the surface of the package substrate and surrounds the semiconductor device. A second ring is disposed over the top surface of the first ring. Also, a protruding part and a matching recessed part are formed on the top surface of the first ring and the bottom surface of the second ring, respectively. The protruding part extends into and engages with the recessed part to connect the first ring and the second ring. An adhesive layer is disposed between the surface of the package substrate and the bottom surface of the first ring for attaching the first ring and the overlying second ring to the package substrate.

Classes IPC  ?

• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 23/16 - Matériaux de remplissage ou pièces auxiliaires dans le conteneur, p. ex. anneaux de centrage
• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 23/58 - Dispositions électriques structurelles non prévues ailleurs pour dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

A semiconductor device including a semiconductor substrate and an interconnect structure is provided. The semiconductor substrate includes a transistor, wherein the transistor has a source region and a drain region. The interconnect structure is disposed over the semiconductor substrate, wherein the interconnect structure includes a plurality of interlayer dielectric layers, a first via and a memory cell. The plurality of interlayer dielectric layers are over the semiconductor substrate. The first via is embedded in at least two interlayer dielectric layers among the plurality of interlayer dielectric layers and electrically connected with the drain region of the transistor. The memory cell is disposed over the at least two interlayer dielectric layers among the plurality of interlayer dielectric layers and electrically connected with the first via.

Classes IPC  ?

• H10B 61/00 - Dispositifs de mémoire magnétique, p. ex. dispositifs RAM magnéto-résistifs [MRAM]
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H10N 50/01 - Fabrication ou traitement
• H10N 50/80 - Détails de structure

Abrégé

An integrated circuit includes a Schmitt trigger circuit. The Schmitt trigger circuit includes a first, second, third and fourth transistor, a first and second feedback transistor, and a first and second circuit. The first transistor is connected between a first node and a first voltage supply having a first supply voltage. The fourth transistor is connected between the third transistor and a second voltage supply having a second supply voltage. The first circuit is connected to a second node, the first and second voltage supply, and configured to supply the second supply voltage to the second node in response to being enabled. The second feedback transistor is connected to a third node, and a fourth node. The second circuit is connected to the fourth node, the first and second voltage supply, and configured to supply the first supply voltage to the fourth node in response to being enabled.

Classes IPC  ?

• H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
• H10D 89/60 - Dispositifs intégrés comprenant des dispositions pour la protection électrique ou thermique, p. ex. circuits de protection contre les décharges électrostatiques [ESD].

Abrégé

Semiconductor devices and methods which utilize a treatment process of a bottom anti-reflective layer are provided. The treatment process may be a physical treatment process in which material is added in order to fill holes and pores within the material of the bottom anti-reflective layer or else the treatment process may be a chemical treatment process in which a chemical reaction is used to form a protective layer. By treating the bottom anti-reflective layer the diffusion of subsequently applied chemicals is reduced or eliminated, thereby helping to prevent defects that arise from such diffusion.

Classes IPC  ?

• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement

Abrégé

Improved inner spacers for semiconductor devices and methods of forming the same are disclosed. In an embodiment, a semiconductor device includes a substrate; a plurality of semiconductor channel structures over the substrate; a gate structure over the semiconductor channel structures, the gate structure extending between adjacent ones of the semiconductor channel structures; a source/drain region adjacent of the gate structure, the source/drain region contacting the semiconductor channel structures; and an inner spacer interposed between the source/drain region and the gate structure, the inner spacer including a first inner spacer layer contacting the gate structure and the source/drain region, the first inner spacer layer including silicon and nitrogen; and a second inner spacer layer contacting the first inner spacer layer and the source/drain region, the second inner spacer layer including silicon, oxygen, and nitrogen, the second inner spacer layer having a lower dielectric constant than the first inner spacer layer.

Classes IPC  ?

• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]
• H10D 84/83 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats semi-conducteurs qui comprennent uniquement des couches semi-conductrices, p. ex. sur des plaquettes de Si ou sur des plaquettes de GaAs-sur-Si caractérisés par l'intégration d'au moins un composant couvert par les groupes ou , p. ex. l'intégration de transistors IGFET de composants à effet de champ uniquement de transistors FET à grille isolée [IGFET] uniquement

Abrégé

A method for fabricating magnetoresistive random-access memory cells (MRAM) on a substrate is provided. The substrate is formed with a magnetic tunneling junction (MTJ) layer thereon. When the MTJ layer is etched to form the MRAM cells, there may be metal components deposited on a surface of the MRAM cells and between the MRAM cells. The metal components are then removed by chemical reaction. However, the removal of the metal components may form extra substances on the substrate. A further etching process is then performed to remove the extra substances by physical etching.

Classes IPC  ?

• H10N 50/01 - Fabrication ou traitement
• H10B 61/00 - Dispositifs de mémoire magnétique, p. ex. dispositifs RAM magnéto-résistifs [MRAM]
• H10N 50/80 - Détails de structure

Abrégé

A circuit includes a signal source configured to provide a test signal to at least one of a plurality of conductive structures based on a decoded signal, a plurality of switches configured to connect the signal source to the plurality of conductive structures, respectively, based on the decoded signal, a multiplexer configured to select a test voltage present on the at least one conductive structure, based on the decoded signal, and an analog-to-digital converter (ADC) configured to provide a digital output based on comparing the test voltage with a reference voltage.

Classes IPC  ?

• G01R 31/28 - Test de circuits électroniques, p. ex. à l'aide d'un traceur de signaux

Abrégé

A manufacturing method of a semiconductor package includes the following steps. A semiconductor device is attached to a carrier by an adhesive layer on the carrier. The semiconductor device is encapsulated by an encapsulating material. A redistribution structure is provided over the semiconductor device and the encapsulating material. The carrier is removed. The adhesive layer is partially removed by anisotropic etching process to form an adhesive residue, wherein the adhesive residue at least reveals a back surface of the semiconductor device and at least partially covers the encapsulating material.

Classes IPC  ?

• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 23/367 - Refroidissement facilité par la forme du dispositif
• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants

Abrégé

A data retention circuit includes a flip-flop circuit including a master latch coupled to a slave latch, wherein the slave latch includes a first input terminal and a first output terminal, and a series combination of a retention latch and a level shifter coupled between the first input terminal and the first output terminal. The slave latch is configured to be selectively coupled to the series combination through a first transmission gate responsive to a restore signal.

Classes IPC  ?

• H03K 3/037 - Circuits bistables
• G06F 1/3237 - Économie d’énergie caractérisée par l'action entreprise par désactivation de la génération ou de la distribution du signal d’horloge
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion

Abrégé

Some embodiments relate to an integrated circuit device including a semiconductor layer, a pixel including a photodetector in the semiconductor layer, a conductive structure electrically coupled to the pixel on a first side of the semiconductor layer, a plurality of light diffusors overlying the photodetector on a second side of the semiconductor layer opposite the first side, and a light-focusing structure overlying the plurality of light diffusors. The light-focusing structure includes a plurality of light-focusing portions. Each of the plurality of light-focusing portions overlies, and is configured to focus light on, a corresponding one or more of the plurality of light diffusors.

Classes IPC  ?

• H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images

Abrégé

A memory circuit includes a non-volatile memory cell, a comparator and a detection circuit that includes a flip-flop. A first input terminal of the comparator is coupled to the non-volatile memory cell. A first output terminal of the comparator is configured to output a first output signal. The detection circuit is configured to latch the first output signal and disrupt a current path between the non-volatile memory cell and the detection circuit. A first input terminal of the flip-flop is coupled to the first output terminal of the comparator. A second input terminal of the flip-flop is configured to receive a first data signal. A third input terminal of the flip-flop is configured to receive a first reset signal. A first output terminal of the flip-flop is configured to generate a second output signal. A second output terminal of the flip-flop is configured to generate an inverted second output signal.

Classes IPC  ?

• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles

Abrégé

A semiconductor device structure is provided. The semiconductor device structure includes first nanostructures and second nanostructures formed over a substrate, and a first gate structure formed over the first nanostructures. The semiconductor device structure includes a second gate structure formed over the second nanostructures. The semiconductor device structure includes a first isolation layer between the first gate structure and the second gate structure. The first isolation layer has a first sidewall surface, a first portion and a second portion, the first sidewall surface of the first isolation layer is sloped, and a width of the first portion is greater than a width of the second portion.

Classes IPC  ?

• H10D 30/62 - Transistors à effet de champ à ailettes [FinFET]
• H10D 30/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 62/10 - Formes, dimensions relatives ou dispositions des régions des corps semi-conducteursFormes des corps semi-conducteurs

Abrégé

A method of forming a semiconductor device includes mounting a bottom wafer on a bottom chuck and mounting a top wafer on a top chuck, wherein one of the bottom chuck and the top chuck has a gasket. The top chuck is moved towards the bottom chuck. The gasket forms a sealed region between the bottom chuck and the top chuck around the top wafer and the bottom wafer. An ambient pressure in the sealed region is adjusted. The top wafer is bonded to the bottom wafer.

Classes IPC  ?

• H01L 21/762 - Régions diélectriques
• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

Abrégé

A coolant system including one or more cooling fin assemblies that are movably coupled to a coolant tank. Each one of the one or more cooling fin assemblies has a first position (i.e., closed position) in which the one or more cooling fin assemblies are slightly tilted with respect to inner sides of the coolant tank. Each one of the one or more cooling fin assemblies has a second position (i.e., opened position) in which the one or more cooling fin assemblies are tiled by a greater amount than the first position exposing an access opening of the coolant tank such that a transfer device may access a coolant cavity within the coolant tank. Each one of the one or more cooling fin assemblies includes a cooling fin structure and a porous drip tray coupled to the cooling fin structure.

Classes IPC  ?

• H05K 7/20 - Modifications en vue de faciliter la réfrigération, l'aération ou le chauffage

Abrégé

A method includes forming Complementary Field-Effect Transistors including a lower transistor comprising a lower source/drain region, and an upper transistor including an upper source/drain region. An upper dielectric layer over the upper source/drain region and a lower dielectric layer under the upper source/drain region are etched to form an opening. A sidewall of the upper source/drain region and a top surface of the lower source/drain region are exposed to the opening. An epitaxy process is performed to form a first semiconductor layer on the sidewall of the upper source/drain region, and a second semiconductor layer on the top surface of the lower source/drain region. The first semiconductor layer is then removed, a contact plug is formed in the opening to electrically connects the upper source/drain region to the second semiconductor layer and the lower source/drain region.

Classes IPC  ?

• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/45 - Electrodes à contact ohmique
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A pellicle for an EUV photo mask includes a first layer; a second layer; and a main layer disposed between the first layer and second layer and including a plurality of nanotubes. At least one of the first layer or the second layer includes a two-dimensional material in which one or more two-dimensional layers are stacked. In one or more of the foregoing and following embodiments, the first layer includes a first two-dimensional material and the second layer includes a second two-dimensional material.

Classes IPC  ?

• G03F 1/62 - Pellicules, p. ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de supportLeur préparation
• G03F 1/24 - Masques en réflexionLeur préparation
• G03F 1/64 - Pellicules, p. ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de supportLeur préparation caractérisés par les cadres, p. ex. du point de vue de leur structure ou de leur matériau

Abrégé

In some embodiments, the present application provides an integrated chip (IC). The IC includes a metal-insulator-metal (MIM) device disposed over a substrate. The MIM device includes a plurality of conductive plates that are spaced from one another. The MIM device further includes a first conductive plug structure that is electrically coupled to a first conductive plate and to a third conductive plate of the plurality of conductive plates. A first plurality of insulative segments electrically isolate a second conductive plate and a fourth conductive plate from the first conductive plug structure. The MIM device further includes a second conductive plug structure that is electrically coupled to the second conductive plate and to the fourth conductive plate of the plurality of conductive plates. A second plurality of insulative segments electrically isolate the first conductive plate and the third conductive plate from the second conductive plug structure.

Classes IPC  ?

• H10D 1/68 - Condensateurs n’ayant pas de barrières de potentiel
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion

Abrégé

Depositing gallium nitride and carbon (GaN:C) (e.g., in the form of composite layers) when forming a gallium nitride drain of a transistor provides a buffer between the gallium nitride of the drain and silicon of a substrate in which the drain is formed. As a result, gaps and other defects caused by lattice mismatch are reduced, which improves electrical performance of the drain. Additionally, current leakage into the substrate is reduced, which further improves electrical performance of the drain. Additionally, or alternatively, implanting silicon in an aluminum nitride (AlN) liner for a gallium nitride drain reduces contact resistance at an interface between the gallium nitride and the silicon. As a result, electrical performance of the transistor is improved.

Classes IPC  ?

• H10D 62/13 - Régions semi-conductrices connectées à des électrodes transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, p. ex. régions de source ou de drain
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/223 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire en utilisant la diffusion dans ou hors d'un solide, à partir d'une ou en phase gazeuse
• H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
• H10D 62/10 - Formes, dimensions relatives ou dispositions des régions des corps semi-conducteursFormes des corps semi-conducteurs
• H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
• H10D 62/854 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs caractérisés en outre par les dopants
• H10F 30/28 - Dispositifs individuels à semi-conducteurs sensibles au rayonnement dans lesquels le rayonnement commande le flux de courant à travers les dispositifs, p. ex. photodétecteurs les dispositifs ayant des barrières de potentiel, p. ex. phototransistors les dispositifs étant sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet les dispositifs étant caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p. ex. phototransistors à effet de champ à jonction

Abrégé

A semiconductor device includes a substrate, an interconnect, and a vertical connection structure. The substrate has a front-side and a back-side. The interconnect is disposed over the front-side of the substrate. The vertical connection structure is embedded in the interconnect and penetrates through the substrate, and the vertical connection structure includes a first portion and a second portion. The first portion is embedded inside the interconnect and further extends into the substrate. The second portion is disposed in the substrate and extends from the back-side to the first portion, and the second portion is in contact with the first portion. An aspect ratio of the second portion is less than an aspect ratio of the first portion.

Classes IPC  ?

• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
• H01L 23/58 - Dispositions électriques structurelles non prévues ailleurs pour dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Circuits, systems, and methods are described herein for generating a boost voltage for a write operation of a memory cell. In one embodiment, a boost circuit includes a first inverter and a second inverter, each configured to invert a write signal. The boost circuit also includes a transistor and a capacitor. The transistor is coupled to an output of the first inverter. The transistor is configured to charge a capacitor based on the write signal and provide a supply voltage to a write driver. The capacitor is coupled to an output of the second inverter. The capacitor is configured to generate and provide a delta voltage to the write driver.

Classes IPC  ?

• G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
• G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice
• G11C 5/06 - Dispositions pour interconnecter électriquement des éléments d'emmagasinage
• G11C 11/4094 - Circuits de commande ou de gestion de lignes de bits
• G11C 11/4096 - Circuits de commande ou de gestion d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits pour la lecture ou l'écriture, circuits d'attaque d'entrée/sortie ou commutateurs de lignes de bits

Abrégé

A package assembly includes an interposer module on a package substrate, a liquid alloy thermal interface material (TIM) on the interposer module, a seal ring surrounding the liquid alloy TIM, and a package lid on the liquid alloy TIM and seal ring, wherein the seal ring, interposer module and package lid seal the liquid alloy TIM.

Classes IPC  ?

• H01L 23/42 - Choix ou disposition de matériaux de remplissage ou de pièces auxiliaires dans le conteneur pour faciliter le chauffage ou le refroidissement
• H01L 21/52 - Montage des corps semi-conducteurs dans les conteneurs
• H01L 23/053 - ConteneursScellements caractérisés par la forme le conteneur étant une structure creuse ayant une base isolante qui sert de support pour le corps semi-conducteur
• H01L 23/10 - ConteneursScellements caractérisés par le matériau ou par la disposition des scellements entre les parties, p. ex. entre le couvercle et la base ou entre les connexions et les parois du conteneur
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

Abrégé

An LDMOS device includes a gate structure, a multi-layered dielectric structure and at least a conductive field plate. The gate structure is disposed over a substrate and between a source region and a drain region. The multi-layered dielectric structure is disposed over the gate structure. The multi-layered dielectric structure includes a first dielectric layer in contact with the gate structure, and a second dielectric layer over the first dielectric layer. A thickness of the second dielectric layer is equal to or greater than a thickness of the first dielectric layer. The conductive field plate is disposed over the multi-layered dielectric structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

In some aspects of the present disclosure, a memory array includes: a plurality of memory cells; and a plurality of logic gates, each of the plurality of logic gates having a first input, a second input, and an output gating a corresponding one of the plurality of memory cells, wherein the first input of each of the plurality of logic gates of a first subset is coupled to a first bit select line.

Classes IPC  ?

• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles
• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire

Abrégé

A dummy gate structure may be formed for a semiconductor device. The dummy gate structure may be formed from an amorphous polysilicon layer. The amorphous polysilicon layer may be deposited in a blanket deposition operation. An annealing operation is performed for the semiconductor device to remove voids, seams, and/or other defects from the amorphous polysilicon layer. The annealing operation may cause the amorphous polysilicon layer to crystallize, thereby resulting in the amorphous polysilicon layer transitioning into a crystallized polysilicon layer. A dual radio frequency (RF) source etch technique may be performed to increase the directionality of ions and radicals in a plasma that is used to etch the crystallized polysilicon layer to form the dummy gate structure. The increased directionality of the ions increases the effectiveness of the ions in etching through the different crystal grain boundaries which increases the etch rate uniformity across the crystallized polysilicon layer.

Classes IPC  ?

• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 30/01 - Fabrication ou traitement

Abrégé

Semiconductor devices, integrated circuits and methods of forming the same are provided. In one embodiment, a semiconductor device includes a metal-insulator-metal structure which includes a bottom conductor plate layer including a first opening and a second opening, a first dielectric layer over the bottom conductor plate layer, a middle conductor plate layer over the first dielectric layer and including a third opening, a first dummy plate disposed within the third opening, and a fourth opening, a second dielectric layer over the middle conductor plate layer, and a top conductor plate layer over the second dielectric layer and including a fifth opening, a second dummy plate disposed within the fifth opening, a sixth opening, and a third dummy plate disposed within the sixth opening. The first opening, the first dummy plate, and the second dummy plate are vertically aligned.

Classes IPC  ?

• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
• H01L 21/3105 - Post-traitement
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/321 - Post-traitement
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H10D 1/00 - Résistances, Condensateurs, Inducteurs
• H10D 1/66 - Condensateurs à conducteur-isolant-semi-conducteur, p. ex. condensateurs MOS
• H10D 1/68 - Condensateurs n’ayant pas de barrières de potentiel

Abrégé

The present disclosure relates to a semiconductor structure. The semiconductor structure includes a conductive gate arranged over a substrate. A first lower source/drain and a second lower source/drain are disposed on opposing sides of the conductive gate. A dielectric is arranged over the first lower source/drain and the second lower source/drain and on the opposing sides of the conductive gate. A first upper source/drain and a second upper source/drain are disposed on the opposing sides of the conductive gate and vertically above the dielectric. A first channel structure is arranged laterally between the conductive gate and both the first lower source/drain and the first upper source/drain. A second channel structure is arranged laterally between the conductive gate and both the second lower source/drain and the second upper source/drain.

Classes IPC  ?

• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]
• H10D 86/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 86/40 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats isolants ou conducteurs, p. ex. formés dans des substrats de silicium sur isolant [SOI] ou sur des substrats en acier inoxydable ou en verre caractérisés par de multiples transistors en couches minces [TFT]
• H10D 86/60 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats isolants ou conducteurs, p. ex. formés dans des substrats de silicium sur isolant [SOI] ou sur des substrats en acier inoxydable ou en verre caractérisés par de multiples transistors en couches minces [TFT] les transistors TFT étant dans des matrices actives
• H10D 99/00 - Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe

Abrégé

An integrated circuit includes a first memory cell array configured to store a first set of data, a second memory cell array configured to store a first inverted set of check bits, a first set of inverters and an error correction code (ECC) decoder. The first set of inverters is configured to generate a second set of check bits in response to a third set of check bits inverted from the second set of check bits. The third set of check bits corresponds to the first inverted set of check bits stored in the second memory cell array. The ECC decoder is configured to detect or correct an error in a second set of data or the second set of check bits thereby generating a set of output data and a been-attacked signal. The been-attacked signal indicating a reset attack by a user.

Classes IPC  ?

• G06F 11/10 - Détection ou correction d'erreur par introduction de redondance dans la représentation des données, p. ex. en utilisant des codes de contrôle en ajoutant des chiffres binaires ou des symboles particuliers aux données exprimées suivant un code, p. ex. contrôle de parité, exclusion des 9 ou des 11
• G06F 21/55 - Détection d’intrusion locale ou mise en œuvre de contre-mesures
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou

Abrégé

A method (of manufacturing a semiconductor device) includes migrating a circuit design from a first netlist corresponding with a first semiconductor process technology (SPT) to a second netlist corresponding with a second SPT, the migrating including: expanding a first version of the first netlist and a first precursor of the second netlist correspondingly to form a second version of the first netlist and a second precursor of the second netlist; before conducting (A) placement and routing (P&R) of a layout diagram corresponding to the second netlist or (B) a static timing analysis of the layout diagram; performing a logic equivalence check (LEC) between the second version of the first netlist and the second precursor of the second netlist, thereby identifying migration errors, and revising the second precursor of the second netlist to reduce the migration errors, thereby resulting in a third precursor of the second netlist.

Classes IPC  ?

• G06F 30/323 - Traduction ou migration, p. ex. logique à logique, traduction de langage descriptif de matériel ou traduction de liste d’interconnections [Netlist]
• G03F 1/70 - Adaptation du tracé ou de la conception de base du masque aux exigences du procédé lithographique, p. ex. correction par deuxième itération d'un motif de masque pour l'imagerie
• G06F 30/3323 - Vérification de la conception, p. ex. simulation fonctionnelle ou vérification du modèle utilisant des méthodes formelles, p. ex. vérification de l’équivalence ou vérification des propriétés
• G06F 30/392 - Conception de plans ou d’agencements, p. ex. partitionnement ou positionnement
• G06F 30/394 - Routage
• G06F 119/12 - Analyse temporelle ou optimisation temporelle

Abrégé

A semiconductor device according to the present disclosure includes a dielectric fin having a helmet layer, a gate structure disposed over a first portion of the helmet layer and extending along a direction, and a dielectric layer adjacent the gate structure and disposed over a second portion of the helmet layer. A width of the first portion along the direction is greater than a width of the second portion along the direction.

Classes IPC  ?

• H10D 30/62 - Transistors à effet de champ à ailettes [FinFET]
• H10D 30/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]
• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement

Abrégé

An optical waveguide includes a first portion, a second portion, and a third portion. The first portion includes an input port configured to allow an input optical signal of a first propagation direction entering therefrom. The second portion includes a taper waveguide portion configured to expanding the input optical signal and a rectangular waveguide portion configure to split the input optical signal, where the rectangular waveguide portion is connected to the taper waveguide portion. The third portion includes at least one output port configured to allow an output optical signal of an output propagation direction exiting therefrom, where the output propagation direction is different from the first propagation direction. The second portion is sandwiched between the first portion and the third portion.

Classes IPC  ?

• G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière

Abrégé

A method includes forming a first gate stack over a first semiconductor region, depositing a spacer layer on the first gate stack, and depositing a dummy spacer layer on the spacer layer. The dummy spacer layer includes a metal-containing material. An anisotropic etching process is performed on the dummy spacer layer and the spacer layer to form a gate spacer and a dummy sidewall spacer, respectively. The first semiconductor region is etched to form a recess extending into the first semiconductor region. The first semiconductor region is etched using the first gate stack, the gate spacer, and the dummy sidewall spacer as an etching mask. The method further includes epitaxially growing a source/drain region in the recess, and removing the dummy sidewall spacer after the source/drain region is grown.

Classes IPC  ?

• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]

Abrégé

An apparatus includes a wafer stage and a particle removing assembly. The wafer stage includes a cup adjacent to a wafer chuck. The particle removing assembly is configured to remove contaminant particles from the cup. In some embodiments, the particle removing assembly comprises a flexible ejecting member that includes one or more elongated tubes, a front tip, and a cleaning tip adapter configured to attach the front tip to each of the one or more elongated tubes. The front tip includes front openings and lateral openings from which pressurized cleaning material are introduced onto an unreachable area of the cup to remove the contaminant particles from the cup.

Classes IPC  ?

• B08B 9/08 - Nettoyage de récipients, p. ex. de réservoirs
• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

Abrégé

In some embodiments, the present disclosure relates to an integrated circuit device. A transistor structure is disposed over a substrate and includes a pair of source/drain regions and a gate electrode between the pair of source/drain regions. A lower inter-layer dielectric (ILD) layer is disposed over the pair of source/drain regions and surrounds the gate electrode. The gate electrode is recessed from top of the lower ILD layer. A gate capping layer is disposed on the gate electrode. The gate capping layer has a top surface aligned or coplanar with that of the lower ILD layer.

Classes IPC  ?

• H10D 64/23 - Électrodes transportant le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. sources, drains, anodes ou cathodes
• H10D 64/27 - Électrodes ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. grilles
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]
• H10D 84/83 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats semi-conducteurs qui comprennent uniquement des couches semi-conductrices, p. ex. sur des plaquettes de Si ou sur des plaquettes de GaAs-sur-Si caractérisés par l'intégration d'au moins un composant couvert par les groupes ou , p. ex. l'intégration de transistors IGFET de composants à effet de champ uniquement de transistors FET à grille isolée [IGFET] uniquement

Abrégé

A semiconductor device includes a first cell. The first cell includes: a substrate; a plurality of gate electrodes extending in a first direction and defining at least one odd-numbered track and at least one even-numbered track within the first cell, the at least one odd-numbered track alternatingly arranged with the at least one even-numbered track; a first power rail extending in a second direction perpendicular to the first direction; a first conductive via connected to the first power rail, the first conductive via being within a first odd-numbered track of the at least one odd-numbered track; a second power rail extending in the second direction; and a second conductive via connected to the second power rail, the second conductive via being within a first even-numbered track of the at least one even-numbered track.

Classes IPC  ?

• H10D 89/10 - Schémas de dispositifs intégrés
• G06F 30/392 - Conception de plans ou d’agencements, p. ex. partitionnement ou positionnement
• G06F 30/394 - Routage
• G06F 119/06 - Analyse de puissance ou optimisation de puissance
• H10D 84/85 - Transistors IGFET complémentaires, p. ex. CMOS

Abrégé

A semiconductor structure includes a first and second integrated circuit (IC) components stacked upon and electrically coupled to each other. The first IC component includes a first bonding structure including a first bonding dielectric layer and a first bonding feature disposed in the first bonding dielectric layer, and a first alignment pattern disposed in the first bonding dielectric layer. The second IC component includes a second bonding structure including a second bonding dielectric layer bonded to the first bonding dielectric layer and a second bonding feature disposed in the second bonding dielectric layer and bonded to the first bonding feature, and a second alignment pattern disposed in the second bonding dielectric layer and aligned with the first alignment pattern in a staggered manner. The second alignment pattern is disposed within a boundary of the first IC component in a top-down view.

Classes IPC  ?

• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/544 - Marques appliquées sur le dispositif semi-conducteur, p. ex. marques de repérage, schémas de test
• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

Abrégé

An embodiment package comprises an integrated circuit die encapsulated in an encapsulant, a patch antenna over the integrated circuit die, and a dielectric feature disposed between the integrated circuit die and the patch antenna. The patch antenna overlaps the integrated circuit die in a top-down view. The thickness of the dielectric feature is in accordance with an operating bandwidth of the patch antenna.

Classes IPC  ?

• H01L 23/66 - Adaptations pour la haute fréquence
• H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
• H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 23/538 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre la structure d'interconnexion entre une pluralité de puces semi-conductrices se trouvant au-dessus ou à l'intérieur de substrats isolants
• H01L 23/552 - Protection contre les radiations, p. ex. la lumière
• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/10 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs ayant des conteneurs séparés
• H01P 3/00 - Guides d'ondesLignes de transmission du type guide d'ondes
• H01Q 1/22 - SupportsMoyens de montage par association structurale avec d'autres équipements ou objets
• H01Q 1/38 - Forme structurale pour éléments rayonnants, p. ex. cône, spirale, parapluie formés par une couche conductrice sur un support isolant
• H01Q 9/04 - Antennes résonnantes
• H01Q 21/06 - Réseaux d'unités d'antennes, de même polarisation, excitées individuellement et espacées entre elles

Abrégé

A semiconductor structure includes a first interconnect structure disposed over a first semiconductor substrate and a thermal sensing device. The thermal sensing device includes a first transistor, a second transistor, a first capacitor coupled to the first transistor, a second capacitor coupled to the second transistor, and a metallization pattern embedded in the first interconnect structure and serving as a resistive heater. At least one selected from the group of the first and second transistors is embedded in the first interconnect structure.

Classes IPC  ?

• G01K 7/34 - Mesure de la température basée sur l'utilisation d'éléments électriques ou magnétiques directement sensibles à la chaleur utilisant des éléments capacitifs
• G01K 7/01 - Mesure de la température basée sur l'utilisation d'éléments électriques ou magnétiques directement sensibles à la chaleur utilisant des éléments semi-conducteurs à jonctions PN
• G01K 13/00 - Thermomètres spécialement adaptés à des fins spécifiques

Abrégé

Low-flow tungsten chemical vapor deposition (CVD) techniques described herein provide substantially uniform deposition of tungsten on a semiconductor substrate. In some implementations, a flow of a processing vapor is provided to a CVD processing chamber such that a flow rate of tungsten hexafluoride in the processing vapor results in the tungsten layer being grown at a slower rate than a higher flow rate of the tungsten hexafluoride to promote substantially uniform growth of the tungsten layer. In this way, the low-flow tungsten CVD techniques may be used to achieve similar surface uniformity performance to an atomic layer deposition (ALD) while being a faster deposition process relative to ALD (e.g., due to the lower deposition rate and large quantity of alternating processing cycles of ALD). This reduces the likelihood of defect formation in the tungsten layer while increasing the throughput of semiconductor device processing for the semiconductor substrate (and other semiconductor substrates).

Classes IPC  ?

• C23C 16/14 - Dépôt d'un seul autre élément métallique
• C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 21/285 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un gaz ou d'une vapeur, p. ex. condensation
• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement

Abrégé

A semiconductor device structure is provided. The semiconductor device structure includes a first substrate including a first face and a second face opposite the first face. A second substrate is bonded to the first face of the first substrate such that the second face of the first substrate faces away from the second substrate. One or more recesses are arranged in the second face of the first substrate and are configured to compensate for thermal expansion or thermal contraction.

Classes IPC  ?

• B81C 1/00 - Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
• B81C 3/00 - Assemblage de dispositifs ou de systèmes à partir de composants qui ont reçu un traitement individuel

Abrégé

A memory cell includes patterning a first trench extending through a first conductive line, depositing a memory film along sidewalls and a bottom surface of the first trench, depositing a channel layer over the memory film, the channel layer extending along the sidewalls and the bottom surface of the first trench, depositing a first dielectric layer over and contacting the channel layer to fill the first trench, patterning a first opening, wherein patterning the first opening comprises etching the first dielectric layer, depositing a gate dielectric layer in the first opening, and depositing a gate electrode over the gate dielectric layer and in the first opening, the gate electrode being surrounded by the gate dielectric layer.

Classes IPC  ?

• H10B 51/20 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H10B 51/30 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par la région noyau de mémoire
• H10D 62/80 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux

Abrégé

An SoIC structure including a first semiconductor die, second semiconductor dies, dummy dies, and a gap filling layer is provided. The second semiconductor dies are disposed over and electrically connected to the first semiconductor die. The dummy dies are disposed over the first semiconductor die to laterally surround the second semiconductor dies. The gap filling layer is disposed on the first semiconductor die to laterally encapsulate the dummy dies and the second semiconductor dies.

Classes IPC  ?

• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/24 - Matériaux de remplissage caractérisés par le matériau ou par ses propriétes physiques ou chimiques, ou par sa disposition à l'intérieur du dispositif complet solide ou à l'état de gel, à la température normale de fonctionnement du dispositif
• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

Abrégé

A filler cell region (in a semiconductor device) includes: filler-gate segments; for which a majority of first ends substantially align with a first reference line and a majority of second ends substantially align with a second reference line, the first and second reference lines being parallel and proximal to a top and bottom boundaries of the filler cell region; first and second filler-gate segments extending continuously across the filler cell region; and third & fourth and fifth & sixth filler-gate segments being correspondingly coaxial and separated by corresponding gate-gaps located centrally in the filler cell region; the first and second filler-gate segments being between the third & fourth filler-gate segments and the fifth & sixth filler-gate segments; and a first end of the first or second filler-gate segment extending to the top boundary; and a second end of the first or second filler-gate segment extending to the bottom boundary.

Classes IPC  ?

• H10D 89/10 - Schémas de dispositifs intégrés
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]
• H10D 84/90 - Circuits intégrés à tranches maîtresses

Abrégé

In some aspects of the present disclosure, a memory device is disclosed. In some aspects, the memory device includes a first voltage regulator to receive a word line voltage provided to a memory array; a resistor network coupled to the first voltage regulator to provide an inhibit voltage to the memory array, wherein the resistor network comprises a plurality of resistors and wherein each of the resistors are coupled in series to an adjacent one of the plurality of resistors; and a switch network comprising a plurality of switches, wherein each of the switches are coupled to a corresponding one of the plurality of resistors and to the memory array via a second voltage regulator.

Classes IPC  ?

• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou

Abrégé

Semiconductor devices and methods of manufactured are presented in which a first redistribution structure is formed, semiconductor devices are bonded to the first redistribution structure, and the semiconductor devices are encapsulated in an encapsulant. First openings are formed within the encapsulant, such as along corners of the encapsulant, in order to help relieve stress and reduce cracks.

Classes IPC  ?

• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition

Abrégé

A semiconductor structure is provided. The semiconductor structure includes a substrate, a plurality of well regions, a gate structure, a drain region, a source region, a circuit, and a voltage source. The gate structure includes a gate oxide over a first surface of the substrate and a gate electrode over the gate oxide. The gate oxide includes a first portion and a second portion connected with the first portion, wherein a thickness of the second portion is greater than that of the second portion. The voltage source is coupled to the drain region, configured to provide a first voltage to the drain region. The circuit is coupled to the gate structure, configured to provide a second voltage to the gate structure. A ratio of the first voltage to the second voltage is in a range from 2 to 4. Methods for manufacturing the semiconductor structure are also provided.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A method for manufacturing a semiconductor device is provided. A gate oxide layer is formed over an N-type well region and a P-type well region. The gate oxide layer comprises an input/output (I/O) oxide layer portion and a reduced surface field oxide (ROX) layer portion. A poly gate is formed on the I/O oxide layer portion. The poly gate extends along an interface between the N-type well region and the P-type well region. At least one poly strap is formed on the ROX layer portion. A resist protect oxide (RPO) layer is formed to completely cover the poly strap and partially cover the poly gate. An inter-level dielectric (ILD) layer is formed over the RPO layer. A connecting feature is formed to penetrate the ILD layer and the RPO layer to contact the poly strap.

Classes IPC  ?

• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

A method includes conducting an electromigration (EM) check process on a schematic design, conducting a mitigating process to mitigate one or more electromigration violations identified during conducting the EM check process, and generating a layout design of the schematic design after at least one iteration of a design process including the EM check process and the mitigating process. The EM check process includes selecting at least some circuits in the schematic design as selected circuits for electromigration check, and checking electromigration compliance in the selected circuits. The mitigating process includes modifying the schematic design.

Classes IPC  ?

• G06F 30/398 - Vérification ou optimisation de la conception, p. ex. par vérification des règles de conception [DRC], vérification de correspondance entre géométrie et schéma [LVS] ou par les méthodes à éléments finis [MEF]
• G06F 30/392 - Conception de plans ou d’agencements, p. ex. partitionnement ou positionnement
• G06F 119/10 - Analyse du bruit ou optimisation du bruit

Abrégé

In some aspects of the present disclosure, a memory device is disclosed. In some aspects, the memory device includes a plurality of memory cells arranged in an array, an input/output (I/O) interface connected to the plurality of memory cells to output data signal from each memory cell, and a control circuit. In some embodiments, the control circuit includes a first clock generator to generate a first clock signal and a second clock signal according to an input clock signal and a chip enable (CE) signal and provide the first clock signal to the plurality of memory cells. In some embodiments, the control circuit includes a second clock generator to generate a third clock signal according to the input clock signal and a DFT (design for testability) enable signal. In some embodiments, the control circuit generates an output clock signal according to the second clock signal or the third clock signal.

Classes IPC  ?

• G11C 29/12 - Dispositions intégrées pour les tests, p. ex. auto-test intégré [BIST]
• G11C 29/36 - Dispositifs de génération de données, p. ex. inverseurs de données
• G11C 29/46 - Logique de déclenchement de test

Abrégé

Provided are FinFET devices and methods of forming the same. A FinFET device includes a substrate, a metal gate strip, gate spacers and a dielectric helmet. The substrate has fins. The metal gate strip is disposed across the fins and has a reversed T-shaped portion between two adjacent fins. The gate spacers are disposed on opposing sidewalls of the metal gate strip. A dielectric helmet is disposed over the metal gate strip.

Classes IPC  ?

• H10D 84/83 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats semi-conducteurs qui comprennent uniquement des couches semi-conductrices, p. ex. sur des plaquettes de Si ou sur des plaquettes de GaAs-sur-Si caractérisés par l'intégration d'au moins un composant couvert par les groupes ou , p. ex. l'intégration de transistors IGFET de composants à effet de champ uniquement de transistors FET à grille isolée [IGFET] uniquement
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H10D 30/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 30/62 - Transistors à effet de champ à ailettes [FinFET]
• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 64/27 - Électrodes ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. grilles
• H10D 64/66 - Électrodes ayant un conducteur couplé capacitivement à un semi-conducteur par un isolant, p. ex. électrodes du type métal-isolant-semi-conducteur [MIS]
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]

Abrégé

A structure including a first semiconductor die and a second semiconductor die is provided. The first semiconductor die includes a first bonding structure. The first bonding structure includes a first dielectric layer and first conductors embedded in the first dielectric layer. The second semiconductor die includes a second bonding structure. The second bonding structure includes a second dielectric layer and second conductors embedded in the second dielectric layer. The first dielectric layer is in contact with the second dielectric layer, and the first conductors are in contact with the second conductors. Thermal conductivity of the first dielectric layer and the second dielectric layer is greater than thermal conductivity of silicon dioxide.

Classes IPC  ?

• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes

Abrégé

A multiple die container load port may include a housing with an opening, and an elevator to accommodate a plurality of different sized die containers. The multiple die container load port may include a stage supported by the housing and moveable within the opening of the housing by the elevator. The stage may include one or more positioning mechanisms to facilitate positioning of the plurality of different sized die containers on the stage, and may include different portions movable by the elevator to accommodate the plurality of different sized die containers. The multiple die container load port may include a position sensor to identify one of the plurality of different sized die containers positioned on the stage.

Classes IPC  ?

• H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
• B23Q 15/00 - Commande automatique ou régulation du mouvement d'avance, de la vitesse de coupe ou de la position tant de l'outil que de la pièce
• B23Q 16/00 - Équipement non prévu ailleurs pour mettre en position de façon précise l'outil ou la pièce à travailler
• G05D 5/04 - Commande des dimensions d'objets, p. ex. de particules
• H01L 23/04 - ConteneursScellements caractérisés par la forme

Abrégé

In one embodiment, a method of forming metal interconnects uses a direct metal etch approach to form and fill the metal gap. The method may include directly etching a metal layer to form metal patterns. The metal patterns may be spaced apart from one another by recesses. A dielectric spacer may be formed extending along the sidewalls of each of the recesses. The recesses may be filled with a conductive material to form a second set of metal patterns. By directly etching the metal film, the technique allows for reduced line width roughness. The disclosed structure may have the advantages of increased reliability, better RC performance and reduced parasitic capacitance.

Classes IPC  ?

• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable

Abrégé

Disclosed embodiments herein relate to an integrated circuit including power switches with active regions connected to form a contiguous region. In one aspect, the integrated circuit includes a first layer including a first metal rail extending in a first direction. In one aspect, the integrated circuit includes a second layer above the first layer along a second direction perpendicular to the first direction. The second layer may include active regions for power switches. In one aspect, the active regions of the power switches are connected to form a contiguous region extending in the first direction. The first metal rail may be electrically coupled to the active regions through via contacts. In one aspect, the integrated circuit includes a third layer above the second layer along the second direction. The third layer may include a second metal rail electrically coupled to some of the power switches through additional via contacts.

Classes IPC  ?

• H10D 89/10 - Schémas de dispositifs intégrés
• G06F 30/31 - Saisie informatique, p. ex. éditeurs spécifiquement adaptés à la conception de circuits
• G06F 30/392 - Conception de plans ou d’agencements, p. ex. partitionnement ou positionnement
• G06F 117/12 - Dimensionnement, p. ex. de transistors ou de portes
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]

Abrégé

A transport case is configured to hold a plurality of wafers for transport of the wafers. The transport case includes a plurality of slots each configured to receive and hold a respective wafer. The transport case includes a sensor system configured to measure the positions or orientations of wafers within the slots or during loading into the slots. The transport case includes a communication system configured to transmit sensor data from the sensor system to an external control system.

Classes IPC  ?

• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
• G01B 11/26 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer des angles ou des cônesDispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour tester l'alignement des axes
• H01L 21/673 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants utilisant des supports spécialement adaptés

Abrégé

In some embodiments, an integrated circuit device includes a substrate having a frontside and a backside; one or more active semiconductor devices formed on the frontside of the substrate; conductive paths formed on the frontside of the substrate; and conductive paths formed on the backside of the substrate. At least some of the conductive paths formed on the backside of the substrate, and as least some of the conductive paths formed on the front side of the substrate, are signal paths among the active semiconductor devices. In some embodiments, other conductive paths formed on the backside of the substrate are power grid lines for powering at least some of the active semiconductor devices.

Classes IPC  ?

• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]
• H10D 84/83 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats semi-conducteurs qui comprennent uniquement des couches semi-conductrices, p. ex. sur des plaquettes de Si ou sur des plaquettes de GaAs-sur-Si caractérisés par l'intégration d'au moins un composant couvert par les groupes ou , p. ex. l'intégration de transistors IGFET de composants à effet de champ uniquement de transistors FET à grille isolée [IGFET] uniquement

Abrégé

Semiconductor device and the manufacturing method thereof are disclosed herein. An exemplary method of forming a semiconductor device comprises forming a fin over a substrate, wherein the fin comprises a first semiconductor layer and a second semiconductor layer comprising different semiconductor materials, and the fin includes a channel region and a source/drain region; forming a dummy gate structure over the substrate and the fin; etching a portion of the fin in the source/drain region; selectively removing an edge portion of the second semiconductor layer in the channel region of the fin such that the second semiconductor layer is recessed, and an edge portion of the first semiconductor layer is suspended; performing a reflow process to the first semiconductor layer to form an inner spacer, wherein the inner spacer forms sidewall surfaces of the source/drain region of the fin; and epitaxially growing a sour/drain feature in the source/drain region.

Classes IPC  ?

• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
• H10D 30/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 30/62 - Transistors à effet de champ à ailettes [FinFET]
• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]
• H10D 62/10 - Formes, dimensions relatives ou dispositions des régions des corps semi-conducteursFormes des corps semi-conducteurs
• H10D 84/83 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats semi-conducteurs qui comprennent uniquement des couches semi-conductrices, p. ex. sur des plaquettes de Si ou sur des plaquettes de GaAs-sur-Si caractérisés par l'intégration d'au moins un composant couvert par les groupes ou , p. ex. l'intégration de transistors IGFET de composants à effet de champ uniquement de transistors FET à grille isolée [IGFET] uniquement

Abrégé

A fusible structure includes: a conductive segment in a first layer extending along a first direction; and a first dummy structure being proximal to the conductive segment relative to a second direction, the second direction being perpendicular to the first direction, the first dummy structure being in a second layer different than the first layer; and wherein: relative to the first direction, the conductive segment includes first, second and third portions, the second portion being between the first portion and the third portion; and relative to a third direction that is perpendicular to the first direction and the second direction, the first portion is thicker than the second portion.

Classes IPC  ?

• H01L 23/525 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées avec des interconnexions modifiables
• H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

Various embodiments of the present disclosure are directed towards an integrated chip including a first electrode over a substrate. A dielectric layer is on the first electrode. A second electrode is on the dielectric layer. The second electrode includes a first conductive layer, a diffusion barrier layer on the first conductive layer, and a second conductive layer on the diffusion barrier layer. The first conductive layer comprises a first plurality of grain boundaries continuously extending from a top surface of the dielectric layer in a first direction away from the dielectric layer. The diffusion barrier layer comprises a second plurality of grain boundaries stacked vertically over one another and continuously extending in a second direction approximately perpendicular to the first direction. The second conductive layer comprises a third plurality of grain boundaries extending in the first direction and over the second plurality of grain boundaries.

Classes IPC  ?

• H10D 1/68 - Condensateurs n’ayant pas de barrières de potentiel
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H10D 1/00 - Résistances, Condensateurs, Inducteurs

Abrégé

A phase shifter includes a first transistor, and a second transistor coupled to the first transistor. The first transistor includes an active region extending in a first direction, and a first set of gates extending in a second direction. The first set of gates overlaps the active region and is configured to receive a first voltage. The first transistor is configured to adjust a resistance or a first capacitance of the phase shifter responsive to the first voltage. The second transistor includes the active region, and a second set of gates extending in the second direction. The second set of gates overlaps the active region, is positioned along opposite edges of the active region, and is configured to receive a second voltage. The second transistor is configured to adjust a second capacitance of the phase shifter responsive to the second voltage.

Classes IPC  ?

• G06F 30/398 - Vérification ou optimisation de la conception, p. ex. par vérification des règles de conception [DRC], vérification de correspondance entre géométrie et schéma [LVS] ou par les méthodes à éléments finis [MEF]
• G03F 1/36 - Masques à correction d'effets de proximitéLeur préparation, p. ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction]
• G03F 1/70 - Adaptation du tracé ou de la conception de base du masque aux exigences du procédé lithographique, p. ex. correction par deuxième itération d'un motif de masque pour l'imagerie
• H03H 11/20 - Déphaseurs à deux accès produisant un déphasage réglable

Abrégé

Some embodiments relate to an integrated circuit device including upper and lower layers. The upper layer includes pixel cells that each include a photodetector and a transfer transistor to transfer electrical charge collected at the photodetector. The upper layer also includes first conductive pads at a lower surface of the upper layer, each of the first pads carrying an indication of the electrical charge transferred by the transfer transistor of one or more of the pixel cells. The lower layer includes second conductive pads at an upper surface of the lower layer, the upper surface of the lower layer lying adjacent the lower surface of the upper layer. Each of the second pads directly contact a corresponding one of the first pads. The lower layer also includes a processing circuit conductively coupled to the second pads and configured to process signals carried via the first and second pads.

Classes IPC  ?

• H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes

Abrégé

The present disclosure relates to an integrated chip. The integrated chip comprises a dielectric layer over a substrate. A first metal feature is over the dielectric layer. A second metal feature is over the dielectric layer and is laterally adjacent to the first metal feature. A first dielectric liner segment extends laterally between the first metal feature and the second metal feature along an upper surface of the dielectric layer. The first dielectric liner segment extends continuously from along the upper surface of the dielectric layer, to along a sidewall of the first metal feature that faces the second metal feature, and to along a sidewall of the second metal feature that faces the first metal feature. A first cavity is laterally between sidewalls of the first dielectric liner segment and is above an upper surface of the first dielectric liner segment.

Classes IPC  ?

• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]

Abrégé

A ferroelectric memory cell (FeRAM) is disclosed that includes an active device (e.g., a transistor) and a passive device (e.g., a ferroelectric capacitor) integrated in a substrate. The transistor and its gate contacts are formed on a front side of the substrate. A carrier wafer can be bonded to the active device to allow the active device to be inverted so that the passive device and associated contacts can be electrically coupled from a back side of the substrate.

Classes IPC  ?

• H10B 53/20 - Dispositifs RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des condensateurs ferro-électriques de mémoire caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H10B 51/10 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 51/20 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
• H10B 53/00 - Dispositifs RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des condensateurs ferro-électriques de mémoire
• H10B 53/10 - Dispositifs RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des condensateurs ferro-électriques de mémoire caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10D 30/67 - Transistors à couche mince [TFT]

Abrégé

A semiconductor package including a first semiconductor die, a second semiconductor die, a first insulating encapsulation, a dielectric layer structure, a conductor structure and a second insulating encapsulation is provided. The first semiconductor die includes a first semiconductor substrate and a through substrate via (TSV) extending from a first side to a second side of the semiconductor substrate. The second semiconductor die is disposed on the first side of the semiconductor substrate. The first insulating encapsulation on the second semiconductor die encapsulates the first semiconductor die. A terminal of the TSV is coplanar with a surface of the first insulating encapsulation. The dielectric layer structure covers the first semiconductor die and the first insulating encapsulation. The conductor structure extends through the dielectric layer structure and contacts with the through substrate via. The second insulating encapsulation contacts with the second semiconductor die, the first insulting encapsulation, and the dielectric layer structure.

Classes IPC  ?

• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/10 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs ayant des conteneurs séparés

Abrégé

A graphene liner deposited between at least one liner material (e.g., barrier layer, ruthenium liner, and/or cobalt liner) and a copper conductive structure reduces surface scattering at an interface between the at least one liner material and the copper conductive structure. Additionally, or alternatively, the carbon-based liner reduces contact resistance at an interface between the at least one liner material and the copper conductive structure. A carbon-based cap may additionally or alternatively be deposited on a metal cap, over the copper conductive structure, to reduce surface scattering at an interface between the metal cap and an additional copper conductive structure deposited over the metal cap.

Classes IPC  ?

• H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées

Abrégé

A semiconductor package structure includes a conductive pad over a substrate. The semiconductor package structure also includes a passivation layer over the conductive pad. The semiconductor package structure further includes a first via structure over the passivation layer and the conductive pad and electrically connected to the conductive pad. In addition, the semiconductor package structure includes a first encapsulating material over the passivation layer and surrounding the first via structure. The first via structure has a first portion on a top surface of the passivation layer and a second portion on the first portion and on a top surface of the first encapsulating material.

Classes IPC  ?

• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
• H01L 25/10 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs ayant des conteneurs séparés

Abrégé

A method of bonding semiconductor chips is described. The method includes the following steps. A semiconductor wafer is provided on a chuck table of a bonding apparatus. A bond head of the bonding apparatus is driven for picking up a first semiconductor chip from a support, wherein the first semiconductor chip has a first warpage amount. The bond head is driven for moving the first semiconductor chip to a position located over a first bonding region of the semiconductor wafer. A deforming process is performed using a deforming mechanism to deform the chuck table and the first bonding region of the semiconductor wafer by a first deform amount, wherein the first deform amount corresponds to the first warpage amount. The first semiconductor chip is bonded to the first bonding region of the semiconductor wafer while maintaining the first deform amount. The deforming mechanism is released from deforming the chuck table.

Classes IPC  ?

• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
• H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
• H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces

Abrégé

A semiconductor device and methods of forming the semiconductor device are described herein and are directed towards forming a source/drain contact plug for adjacent finFETs. The source/drain regions of the adjacent finFETs are embedded in an interlayer dielectric and are separated by an isolation region of a cut-metal gate (CMG) structure isolating gate electrodes of the adjacent finFETs The methods include recessing the isolation region, forming a contact plug opening through the interlayer dielectric to expose portions of a contact etch stop layer disposed over the source/drain regions through the contact plug opening, the contact etch stop layer being a different material from the material of the isolation region. Once exposed, the portions of the CESL are removed and a conductive material is formed in the contact plug opening and in contact with the source/drain regions of the adjacent finFETs and in contact with the isolation region.

Classes IPC  ?

• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/266 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions en utilisant des masques
• H01L 21/3105 - Post-traitement
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/762 - Régions diélectriques
• H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
• H10D 62/13 - Régions semi-conductrices connectées à des électrodes transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, p. ex. régions de source ou de drain
• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/85 - Transistors IGFET complémentaires, p. ex. CMOS

Abrégé

Various embodiments of the present disclosure are directed towards an integrated chip comprising a first photodetector arranged in a first substrate. The first photodetector absorbs light in a first wavelength range. A second substrate underlies the first substrate. A second photodetector is arranged on the second substrate. The second photodetector absorbs light in a second wavelength range different from the first wavelength range. A dielectric structure is arranged between a first surface of the first substrate and a first surface of the second substrate.

Classes IPC  ?

• H10F 39/15 - Capteurs d’images à couplage de charge [CCD]
• H10F 39/00 - Dispositifs intégrés, ou ensembles de plusieurs dispositifs, comprenant au moins un élément couvert par le groupe , p. ex. détecteurs de rayonnement comportant une matrice de photodiodes

Abrégé

A semiconductor device includes an error correction code circuit and a register circuit. The error correction code circuit is configured to generate first data according to second data. The register circuit is configured to generate reset information according to a difference between the first data and the second data, for adjusting a memory cell associated with the second data. A method is also disclosed herein.

Classes IPC  ?

• G06F 11/10 - Détection ou correction d'erreur par introduction de redondance dans la représentation des données, p. ex. en utilisant des codes de contrôle en ajoutant des chiffres binaires ou des symboles particuliers aux données exprimées suivant un code, p. ex. contrôle de parité, exclusion des 9 ou des 11
• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S
• H03K 19/20 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion caractérisés par la fonction logique, p. ex. circuits ET, OU, NI, NON

Abrégé

A semiconductor device includes a plurality of first stack structures formed in a first area of a substrate, wherein the plurality of first stack structures are configured to form a plurality of first transistors that operate under a first voltage level. The semiconductor device includes a plurality of second stack structures formed in a second area of the substrate, wherein the plurality of second stack structures are configured to form a plurality of second transistors that operate under a second voltage level greater than the first voltage level. The semiconductor device includes a first isolation structure disposed between neighboring ones of the plurality of first stack structures and has a first height. The semiconductor device includes a second isolation structure disposed between neighboring ones of the plurality of second stack structures and has a second height. The first height is greater than the second height.

Classes IPC  ?

• H10D 84/83 - Dispositifs intégrés formés dans ou sur des substrats semi-conducteurs qui comprennent uniquement des couches semi-conductrices, p. ex. sur des plaquettes de Si ou sur des plaquettes de GaAs-sur-Si caractérisés par l'intégration d'au moins un composant couvert par les groupes ou , p. ex. l'intégration de transistors IGFET de composants à effet de champ uniquement de transistors FET à grille isolée [IGFET] uniquement
• H10D 84/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 84/03 - Fabrication ou traitement caractérisés par l'utilisation de technologies basées sur les matériaux utilisant une technologie du groupe IV, p. ex. technologie au silicium ou au carbure de silicium [SiC]

Abrégé

A ferroelectric memory device includes a first conductive region, a second conductive region and a ferroelectric structure. The second conductive region is disposed over the first conductive region. The ferroelectric structure includes a plurality of different ferroelectric materials stacked between the first conductive region and the second conductive region.

Classes IPC  ?

• H10B 53/30 - Dispositifs RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des condensateurs ferro-électriques de mémoire caractérisés par la région noyau de mémoire
• H01L 21/3115 - Dopage des couches isolantes
• H10B 51/30 - Dispositifs de RAM ferro-électrique [FeRAM] comprenant des transistors ferro-électriques de mémoire caractérisés par la région noyau de mémoire
• H10D 1/68 - Condensateurs n’ayant pas de barrières de potentiel
• H10D 30/01 - Fabrication ou traitement
• H10D 30/69 - Transistors IGFET ayant des isolateurs de grille à piégeage de charges, p. ex. transistors MNOS
• H10D 64/01 - Fabrication ou traitement

Abrégé

An integrated chip (IC) device according to the present disclosure includes a device region, an interconnect structure disposed over the device region, and a seal ring surrounding the device region and the interconnect structure. The device region includes a transistor having a gate structure. The seal ring includes a metal structure. The gate structure is thermally coupled to the metal structure by way of a diode.

Classes IPC  ?

• H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• H01L 29/861 - Diodes

Abrégé

A test key configured to measure resistance of a through semiconductor via in a semiconductor substrate is provided. The test key includes a first resistor, a first conductor, a first probe pad, a second conductor, a second probe pad, a third conductor, a third probe pad, a fourth conductor, and a fourth probe pad. The first probe pad is electrically connected to a first end of the through semiconductor via by the first resistor and the first conductor. The second probe pad is electrically connected to the first end of the through semiconductor via by the second conductor. The third probe pad is electrically connected to a second end of the through semiconductor via by the third conductor. The fourth probe pad is electrically connected to the second end of the through semiconductor via by the fourth conductor.

Classes IPC  ?

• H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement
• G01R 31/28 - Test de circuits électroniques, p. ex. à l'aide d'un traceur de signaux
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
• H10D 1/47 - Résistances n’ayant pas de barrières de potentiel

Abrégé

A semiconductor package includes a package substrate, an integrated interconnect structure, an optical engine module, and an integrated circuit package. The integrated interconnect structure is bonded over the package substrate and includes an insulation body, a plurality of through vias extending through the insulation body. The optical engine module includes an electronic die, a photonic die, and a waveguide. A portion of the optical engine module is embedded in the integrated interconnect structure. The integrated circuit package is bonded over the integrated interconnect structure and electrically coupled to the optical engine module.

Classes IPC  ?

• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
• G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

Abrégé

A method of transporting a first carrier is provided. The method includes responsive to a processing station being scheduled to receive a semiconductor wafer that is carried by the first carrier, moving a first transport vehicle from a first track to a second track via a first junction while the first carrier is supported by a first carrier support component of the first transport vehicle. The method includes transferring the first carrier from the first carrier support component to the buffer support component while the first transport vehicle is engaged with the second track. The method includes responsive to the processing station being available to receive the semiconductor wafer, transferring the first carrier from the buffer support component to a second carrier support component of the second transport vehicle. The method includes transferring the first carrier from the second carrier support component to the processing station.

Classes IPC  ?

• H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

Abrégé

A method includes providing a workpiece comprising a stack of semiconductor layers including interleaving first semiconductor layers and second semiconductor layers, forming a dummy gate structure to wrap over a channel region of the stack of semiconductor layers, performing a first etching process to selectively recess the second semiconductor layers, forming a gate spacer layer over the dummy gate structure and the stack of semiconductor layers, recessing a source/drain region of the stack of semiconductor layers to form a source/drain opening, performing a second etching process to selectively recess the second semiconductor layers from the source/drain opening to form inner spacer recesses, forming inner spacers in the inner spacer recesses, forming a source/drain feature in the source/drain opening, and replacing the dummy gate structure and the second semiconductor layers with a gate structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 21/8234 - Technologie MIS
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A semiconductor photonics device may include a photonic integrated circuit and may be coupled with an output optical fiber at a top surface of the semiconductor photonics device. To facilitate coupling of modulated optical signals to the output optical fiber at the top surface of the semiconductor photonics device, the semiconductor photonics device may include a mirror structure that is supported by a semiconductor support structure included in the semiconductor photonics device. The mirror structure may be positioned at an angle relative to a surface of a semiconductor substrate of the semiconductor photonics device, which enables the mirror structure to transfer a modulated optical signal propagating in a first direction to a second direction toward the output optical fiber.

Classes IPC  ?

• G02B 6/42 - Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques

Abrégé

Embodiments of the present disclosure provide a method for forming semiconductor devices. Particularly, embodiments of the present disclosure provide a method for incorporating a filler element to a high-K dielectric layer in a gate structure. The filler element reduces vacancies in the high-K dielectric layer, thereby, improving threshold voltage control and device performance.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 21/3115 - Dopage des couches isolantes
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

An integrated circuit (IC) device includes a first transistor positioned on a front side of a semiconductor substrate, the first transistor including a first gate electrode, first and second epitaxial regions, a first channel extending between the first and second epitaxial regions and through the first gate electrode, and first and second metal-like defined (MD) segments directly overlying the respective first and second epitaxial regions. A first power rail is positioned on a back side of the semiconductor substrate, a first via structure extends from the first epitaxial region to the first power rail, and a second via structure extends from the first MD segment to the first power rail.

Classes IPC  ?

• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A method includes forming a stack of alternating oxide semiconductor channel layers and sacrificial layers over a substrate; removing first portions of the sacrificial layers to expose channel regions of the oxide semiconductor channel layers; forming a gate structure wrapping around each of the channel regions of the oxide semiconductor channel layers; removing second portions of the sacrificial layers to expose source/drain regions of the oxide semiconductor channel layers; and forming source/drain electrodes wrapping around and in contact with each of the source/drain regions of the oxide semiconductor channel layers, wherein the source/drain electrodes are made of a metal-containing material.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/383 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, dans ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductrices en utilisant la diffusion dans ou hors d'un solide, à partir d'une ou en phase gazeuse
• H01L 21/477 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p. ex. recuit, frittage
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A lithography method includes the following steps. A target layer is formed over a substrate. A photoresist composition is applied over the target layer to form a photoresist layer. The photoresist layer is exposed. A hydrophobic material is formed over the photoresist layer. A reflow process is performed to the photoresist layer and the hydrophobic material. The hydrophobic material is removed. The target layer is patterned using the photoresist layer as an etch mask.

Classes IPC  ?

• H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
• G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
• G03F 7/16 - Procédés de couchageAppareillages à cet effet
• G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p. ex. développateurs
• H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable

Abrégé

A semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided. The semiconductor device includes a substrate, a plurality of fin structures, a gate oxide layer and a gate electrode layer. The fin structures are disposed on the substrate. The gate oxide layer is formed on the fin structures. The gate electrode layer covers the gate oxide layer and is substantially perpendicular to the fin structures, wherein the fin structures include a first type of fin and a second type of fin, and the gate oxide layer includes a first gate oxide portion and a second gate oxide portion, the first gate oxide portion covers the first type of fin, and the second gate oxide portion covers the second type of fin.

Classes IPC  ?

• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H01L 21/8234 - Technologie MIS

Abrégé

A semiconductor structure may include a wire-bond pad including a first electrically conducting surface, a flip-chip bump including a second electrically conducting surface, a polymer layer formed over a surface of the semiconductor structure, wherein the first electrically conducting surface of the wire-bond pad is located under a first opening in the polymer layer, and wherein the flip-chip bump extends through a second opening in the polymer layer.

Classes IPC  ?

• H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

Abrégé

Methods and structures for inserting disposable interposers include forming a first gate over a first fin and a first spacer layer on sidewalls of the first gate, and a second gate over a second fin and a second spacer layer on sidewalls of the second gate. The method further includes replacing, within the first fin, epitaxial layers of a second composition with disposable interposers disposed beneath the first gate and first inner spacers on opposing ends of the disposable interposers. The method further includes etching back, within the second fin, opposing lateral ends of the epitaxial layers of the second composition to form recesses disposed beneath the second spacer layer and between adjacent epitaxial layers of the first composition. The method further includes forming second inner spacers, within the second fin, within each of the recesses on the opposing lateral ends of the epitaxial layers of the second composition.

Classes IPC  ?

• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A method includes: positioning a mask in a processing chamber of a mask repair apparatus; determining whether a first abnormality is present by a first gas analysis device during forming a first vacuum in a column over the processing chamber; determining whether a second abnormality is present by a second gas analysis device during forming a second vacuum in the processing chamber; determining whether a third abnormality is present by a third gas analysis device during flowing a process gas into the processing chamber; determining whether a fourth abnormality is present by a fourth gas analysis device during directing an electron beam or ion beam at the mask with the process gas in the processing chamber; and in response to determining that one of the first, second, third or fourth abnormalities is present: halting the directing an electron beam or ion beam at the mask; and performing a repair associated with the first, second, third or fourth abnormality that is present.

Classes IPC  ?

• G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p. ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]Leur préparation
• G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
• H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou

Abrégé

A semiconductor device structure and methods of forming the same are described. The structure includes a first gate dielectric layer disposed over a substrate, the first gate dielectric layer includes an inner surface and an outer surface opposite the inner surface, and the first gate dielectric layer includes a fluorine concentration that decreases from the inner surface towards the outer surface. The structure further includes a second gate dielectric layer disposed on the first gate dielectric layer, the first and second gate dielectric layers have a combined thickness, and a thickness of the first gate dielectric layer ranges from about 30 percent to about 80 percent of the combined thickness. The structure further includes a gate electrode layer disposed over the second gate dielectric layer and a spacer disposed adjacent the first gate dielectric layer.

Classes IPC  ?

• H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/40 - Electrodes
• H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
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Abrégé

A sense amplifier is provided. A first terminal of a first invertor is connected to a power node and a second terminal of the first invertor is connected to a cell current source. A first terminal of a second invertor is connected to the power node and a second terminal of the second invertor is connected to a reference current source. The first invertor is cross coupled with the second invertor at a first node and a second node. A pre-charge circuit is connected to the first node and the second node. A first pull up transistor and a second pull up transistor are connected between a supply voltage node and the power node. A signal level detector circuit is connected to the second pull up transistor. The signal level detector circuit switches on the second pull up transistor when a remaining voltage on one of the first node and the second node is below a reference voltage.

Classes IPC  ?

• G11C 7/06 - Amplificateurs de lectureCircuits associés