Abrégé

The present invention relates to a fixing-type anti-loosening fastening structure capable of fixing a first member and a second member that are same as or different from each other, and in order to prevent the coupling force from being reduced because a fixing bolt coupling the members is loosened during operation, a locking cap is coupled to the fixing bolt. In particular, a fixing-type anti-loosening fastening structure of a shower head for plasma and a gas distribution plate can be provided, the fixing-type anti-loosening fastening structure being capable of being applied to a fastening structure of a shower head for plasma and a gas distribution plate, included in a semiconductor manufacturing apparatus, so as to prevent a decrease in fastening force because a distribution plate fixing bolt coupling together a shower head portion and a gas distribution portion is loosened during operation.

Classes IPC  ?

• F16B 39/10 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage s'effectue après vissage par une plaque ou un anneau immobile par rapport au boulon ou à l'objet
• F16B 37/04 - Dispositifs pour fixer les écrous à des surfaces, p. ex. à des feuilles, à des plaques
• F16B 39/24 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage se fait en même temps que le vissage ou le serrage par rondelles, rondelles à ressort ou plaques élastiques qui bloquent contre l'objet
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

Abrégé

The present invention relates to a sliding-type anti-loosening fastening structure between a first member and a second member, wherein an unlocking cap slides to prevent a fixing bolt coupling the first member and the second member from loosening and exerting decreased fastening force during work, and thus machining and assembly errors can be reduced. The present invention can be applied to a plasma shower head and a gas distribution plate, which are semiconductor manufacturing devices.

Classes IPC  ?

• F16B 39/10 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage s'effectue après vissage par une plaque ou un anneau immobile par rapport au boulon ou à l'objet
• F16B 37/04 - Dispositifs pour fixer les écrous à des surfaces, p. ex. à des feuilles, à des plaques
• F16B 39/24 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage se fait en même temps que le vissage ou le serrage par rondelles, rondelles à ressort ou plaques élastiques qui bloquent contre l'objet
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• F16B 39/12 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage s'effectue après vissage par écrous de blocage, c.-à-d. contre-écrous
• F16B 39/28 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage se fait en même temps que le vissage ou le serrage par organes particuliers portés par l'écrou ou le boulon ou par la forme particulière de ceux-ci

Abrégé

The present invention relates to a replaceable profile upper electrode and a plasma processing apparatus including same, wherein the upper electrode includes a lower surface in contact with plasma, and includes a first region and a second region respectively having a first thickness and a second thickness, and the lower surface of the upper electrode in contact with plasma is formed as a continuous surface that changes from the second region to the first region, and the second region includes a fastening structure so as to be separated from the upper electrode. Accordingly, the uniformity of plasma formed inside the plasma processing apparatus can be improved, and the replacement cycle of the upper electrode can be increased simultaneously.

Classes IPC  ?

• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse

Abrégé

The present invention relates to an interlocking fastening upper electrode assembly having an improved fastening force in which a bush inserted into a silicon electrode protrudes above the silicon electrode, and the protruding portion is inserted into and coupled to an anodizing plate so as to suppress rotation of the bush, the assembly comprising: an inner and outer tab composite nut coupled to an assembly groove of the silicon electrode and an anodizing plate so as to prevent rotation; an inner and outer tab nut assembled in the assembly groove of the silicon electrode and fitted to the outside of the inner and outer tab composite nut; and an assembly module coupled through the inside of a through part of the anodizing plate and assembled with the inner and outer tab composite nut in order to fix the anodizing plate provided above the silicon electrode.

Classes IPC  ?

• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• F16B 39/12 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage s'effectue après vissage par écrous de blocage, c.-à-d. contre-écrous
• F16B 39/24 - Blocage des vis, boulons ou écrous dans lequel le verrouillage se fait en même temps que le vissage ou le serrage par rondelles, rondelles à ressort ou plaques élastiques qui bloquent contre l'objet

Abrégé

The present invention relates to a coupling-type focus ring whereby the focus ring is separated into a plurality of portions and assembled so as to enable the replacement of only a portion which has been used up as a result of etching by being exposed to plasma, the coupling-type focus ring comprising: an upper plasma exposure ring placed on the outer side of the upper portion of an electrostatic chuck; a lower thermal conduction support ring assembled on the lower portion of the upper plasma exposure ring so as to tightly adhere thereto; a coupling ring assembled on the outer side of the lower thermal conduction support ring; a first coupling part for coupling the upper plasma exposure ring with the lower thermal conduction support ring; and a second coupling part for coupling the upper plasma exposure ring with the coupling ring.

Classes IPC  ?

• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants