- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C09K - Substances pour des applications non prévues ailleursapplications de substances non prévues ailleurs
- C09K 13/02 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un hydroxyde d'un métal alcalin
Détention brevets de la classe C09K 13/02
Brevets de cette classe: 114
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1399 |
10 |
| Versum Materials US, LLC | 658 |
9 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46560 |
6 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 341 |
5 |
| Corning Incorporated | 10380 |
3 |
| Mitsubishi Paper Mills Limited | 229 |
3 |
| SCHOTT Solar AG | 48 |
3 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 151303 |
2 |
| Merck Patent GmbH | 5726 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 30016 |
2 |
| Texas Instruments Incorporated | 19553 |
2 |
| Tokyo Electron Limited | 13363 |
2 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5856 |
2 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10976 |
2 |
| ASM IP Holding B.V. | 2225 |
2 |
| Atotech Deutschland GmbH | 543 |
2 |
| Entegris, Inc. | 1950 |
2 |
| GP Solar GmbH | 12 |
2 |
| National University of Singapore | 2538 |
2 |
| SCHOTT AG | 1717 |
2 |
| Autres propriétaires | 49 |