- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/14 - Originaux caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches de recouvrement, anneaux pelliculaires
Détention brevets de la classe G03F 1/14
Brevets de cette classe: 65
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Nikon Corporation | 7226 |
6 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6157 |
6 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2586 |
5 |
| DTS, Inc. | 378 |
5 |
| Hoya Corporation | 2400 |
4 |
| Micron Technology, Inc. | 27901 |
3 |
| ASML Netherlands B.V. | 8045 |
3 |
| International Business Machines Corporation | 62864 |
2 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49324 |
2 |
| Massachusetts Institute of Technology | 10322 |
2 |
| Synopsys, Inc. | 2630 |
2 |
| Brion Technologies, Inc. | 7 |
2 |
| LG Display Co., Ltd. | 15106 |
1 |
| Hewlett-Packard Development Company, L.P. | 25118 |
1 |
| Applied Materials Israel, Ltd. | 690 |
1 |
| Hynix Semiconductor Inc. | 1524 |
1 |
| Eastman Kodak Company | 2564 |
1 |
| Advanced Micro Devices, Inc. | 6158 |
1 |
| United Microelectronics Corp. | 4534 |
1 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8621 |
1 |
| Autres propriétaires | 15 |