- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
Détention brevets de la classe G03F 7/004
Brevets de cette classe: 10278
Historique des publications depuis 10 ans
|
564
|
558
|
573
|
623
|
638
|
648
|
713
|
813
|
925
|
549
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30512 |
1938 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6083 |
672 |
| JSR Corporation | 2555 |
635 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1560 |
554 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8996 |
309 |
| Toray Industries, Inc. | 7096 |
277 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10556 |
242 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48248 |
209 |
| Resonac Corporation | 3516 |
162 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157557 |
149 |
| Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2245 |
145 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4721 |
130 |
| Tokyo Electron Limited | 13796 |
128 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 426 |
125 |
| LG Chem, Ltd. | 17921 |
116 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 275 |
115 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3619 |
107 |
| Merck Patent GmbH | 5725 |
102 |
| Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 200 |
101 |
| Inpria Corporation | 144 |
99 |
| Autres propriétaires | 3963 |