- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
Détention brevets de la classe G03F 7/004
Brevets de cette classe: 10429
Historique des publications depuis 10 ans
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564
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558
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573
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623
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648
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714
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815
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926
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753
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30774 |
1975 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6148 |
689 |
| JSR Corporation | 2559 |
642 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1557 |
559 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8989 |
309 |
| Toray Industries, Inc. | 7163 |
282 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10924 |
250 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49027 |
214 |
| Resonac Corporation | 3739 |
180 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 159298 |
154 |
| Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2225 |
143 |
| Tokyo Electron Limited | 13956 |
133 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4757 |
131 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 432 |
129 |
| LG Chem, Ltd. | 17978 |
116 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 266 |
113 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3650 |
107 |
| Nissan Chemical Corporation | 2294 |
104 |
| Inpria Corporation | 146 |
103 |
| Merck Patent GmbH | 5755 |
102 |
| Autres propriétaires | 3994 |