- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/24 - Production du plasma
Détention brevets de la classe H05H 1/24
Brevets de cette classe: 2676
Historique des publications depuis 10 ans
|
154
|
162
|
179
|
184
|
180
|
203
|
187
|
181
|
146
|
90
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Applied Materials, Inc. | 18589 |
72 |
| Cinogy GmbH | 101 |
65 |
| TDK Electronics AG | 933 |
37 |
| Lam Research Corporation | 5225 |
33 |
| Imagineering, Inc. | 125 |
30 |
| Tokyo Electron Limited | 12694 |
29 |
| Fuji Corporation | 3356 |
27 |
| Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | 994 |
27 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 145864 |
20 |
| Plasmology4, Inc. | 47 |
20 |
| Sekisui Chemical Co., Ltd. | 3386 |
20 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 31330 |
18 |
| General Fusion Inc. | 77 |
18 |
| National University Corporation Nagoya University | 857 |
18 |
| relyon plasma GmbH | 41 |
18 |
| The Boeing Company | 20051 |
17 |
| University of Florida Research Foundation, Inc. | 4018 |
17 |
| Linde Aktiengesellschaft | 1514 |
17 |
| KLA-Tencor Corporation | 2544 |
16 |
| Ushio Denki Kabushiki Kaisha | 1178 |
16 |
| Autres propriétaires | 2141 |