- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/24 - Production du plasma
Détention brevets de la classe H05H 1/24
Brevets de cette classe: 2768
Historique des publications depuis 10 ans
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162
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206
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186
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138
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110
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Applied Materials, Inc. | 20764 |
69 |
| Cinogy GmbH | 101 |
66 |
| TDK Electronics AG | 1026 |
39 |
| Lam Research Corporation | 5762 |
31 |
| Imagineering, Inc. | 124 |
30 |
| Fuji Corporation | 3750 |
27 |
| Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | 961 |
27 |
| Tokyo Electron Limited | 14081 |
25 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 160170 |
20 |
| Plasmology4, Inc. | 47 |
20 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 34776 |
19 |
| relyon plasma GmbH | 42 |
19 |
| The Boeing Company | 20237 |
18 |
| University of Florida Research Foundation, Inc. | 4235 |
18 |
| General Fusion Inc. | 81 |
18 |
| National University Corporation Nagoya University | 772 |
18 |
| Sekisui Chemical Co., Ltd. | 3679 |
18 |
| Ushio Denki Kabushiki Kaisha | 1226 |
18 |
| Linde Aktiengesellschaft | 1409 |
17 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 11171 |
16 |
| Autres propriétaires | 2235 |