- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C09K - Substances pour des applications non prévues ailleursapplications de substances non prévues ailleurs
- C09K 13/08 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique contenant un composé du fluor
Détention brevets de la classe C09K 13/08
Brevets de cette classe: 404
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Entegris, Inc. | 1861 |
31 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 329 |
19 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1306 |
17 |
| Corning Incorporated | 10252 |
16 |
| Central Glass Company, Limited | 1265 |
16 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 144675 |
13 |
| Versum Materials US, LLC | 639 |
13 |
| Enf Technology Co., Ltd. | 51 |
12 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 34349 |
11 |
| BASF SE | 20874 |
10 |
| ASM IP Holding B.V. | 2048 |
10 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3452 |
9 |
| Soulbrain Co., Ltd. | 245 |
9 |
| Tokyo Electron Limited | 12599 |
8 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1537 |
8 |
| Micron Technology, Inc. | 26221 |
7 |
| Lam Research Corporation | 5217 |
7 |
| Advanced Technology Materials, Inc. | 194 |
6 |
| 3m Innovative Properties Company | 17853 |
5 |
| FUJIFILM Corporation | 29273 |
5 |
| Autres propriétaires | 172 |