- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/00 - Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. masques, photomasques ou réticulesMasques vierges ou pellicules à cet effetRéceptacles spécialement adaptés à ces originauxLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/00
Brevets de cette classe: 1241
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7954 |
82 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48490 |
80 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6113 |
54 |
| Hoya Corporation | 2719 |
52 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44158 |
47 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 158156 |
38 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38721 |
31 |
| Micron Technology, Inc. | 27709 |
29 |
| Kioxia Corporation | 10840 |
25 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3342 |
21 |
| Carl Zeiss SMS GmbH | 46 |
21 |
| Synopsys, Inc. | 2712 |
19 |
| Nikon Corporation | 7232 |
17 |
| LG Chem, Ltd. | 17937 |
16 |
| Texas Instruments Incorporated | 19647 |
16 |
| GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6383 |
16 |
| United Microelectronics Corp. | 4498 |
15 |
| Beijing BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 3934 |
15 |
| FUJIFILM Corporation | 30543 |
14 |
| Applied Materials, Inc. | 20438 |
13 |
| Autres propriétaires | 620 |