- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/26 - Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]Substrats pour PSMLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/26
Brevets de cette classe: 367
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Hoya Corporation | 2691 |
64 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48629 |
60 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6127 |
43 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 158605 |
13 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44484 |
12 |
| Agc, Inc. | 5590 |
11 |
| S&S Tech Co., Ltd. | 33 |
11 |
| Applied Materials, Inc. | 20514 |
9 |
| SK Hynix Inc. | 12611 |
8 |
| ASML Netherlands B.V. | 7987 |
7 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3356 |
7 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38914 |
6 |
| Beijing BOE Display Technology Co., Ltd. | 3010 |
6 |
| KLA-Tencor Corporation | 2517 |
4 |
| National Research Council of Canada | 1549 |
4 |
| Powerchip Semiconductor Manufacturing Corporation | 409 |
4 |
| Tekscend Photomask Corp. | 35 |
4 |
| Luminamask Co., Ltd. | 29 |
4 |
| Nikon Corporation | 7229 |
3 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 8471 |
3 |
| Autres propriétaires | 84 |