- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/52 - Réflecteurs
Détention brevets de la classe G03F 1/52
Brevets de cette classe: 137
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46507 |
32 |
| Applied Materials, Inc. | 19577 |
27 |
| Agc, Inc. | 5129 |
23 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 151017 |
7 |
| Hoya Corporation | 2756 |
7 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3146 |
5 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5842 |
4 |
| KLA Corporation | 1721 |
3 |
| SK Hynix Inc. | 11871 |
2 |
| HKC Corporation Limited | 3377 |
2 |
| Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co., ltd. | 1336 |
2 |
| WI-A Corporation | 16 |
2 |
| Kioxia Corporation | 10512 |
2 |
| Tekscend Photomask Corp. | 33 |
2 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 37127 |
1 |
| LG Chem, Ltd. | 17741 |
1 |
| Nikon Corporation | 7268 |
1 |
| United Microelectronics Corp. | 4369 |
1 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42421 |
1 |
| Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG | 12 |
1 |
| Autres propriétaires | 11 |