- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/76 - Création des motifs d'un masque par imagerie
Détention brevets de la classe G03F 1/76
Brevets de cette classe: 197
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46069 |
41 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5773 |
13 |
| Applied Materials, Inc. | 19204 |
9 |
| Lam Research Corporation | 5362 |
8 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 41648 |
8 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148924 |
7 |
| FUJIFILM Corporation | 29797 |
7 |
| Kioxia Corporation | 10456 |
7 |
| Hoya Corporation | 2763 |
5 |
| Google LLC | 43044 |
5 |
| Texas Instruments Incorporated | 19493 |
4 |
| ASML Netherlands B.V. | 7573 |
3 |
| United Microelectronics Corp. | 4295 |
3 |
| Synopsys, Inc. | 2753 |
3 |
| Tsinghua University | 6011 |
3 |
| Hefei BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 1376 |
3 |
| Mycronic AB | 163 |
3 |
| Beijing Vfortune New Energy Power Technology Development Co., Ltd. | 23 |
3 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 36165 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17682 |
2 |
| Autres propriétaires | 58 |