- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/025 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des triples liaisons carbone-carbone, p. ex. composés acétyléniques
Détention brevets de la classe G03F 7/025
Brevets de cette classe: 65
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Datalase Ltd. | 111 |
11 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5587 |
5 |
| Lawrence Livermore National Security, LLC | 1923 |
4 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42036 |
3 |
| JSR Corporation | 2507 |
3 |
| Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (epfl) Epfl-tto | 13 |
3 |
| HRL Laboratories, LLC | 1598 |
3 |
| Tokyo Electron Limited | 12511 |
2 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 317 |
2 |
| Nissan Chemical Corporation | 1967 |
2 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 412 |
2 |
| 3m Innovative Properties Company | 17842 |
1 |
| Sony Corporation | 31157 |
1 |
| International Business Machines Corporation | 60907 |
1 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 8005 |
1 |
| Massachusetts Institute of Technology | 10002 |
1 |
| Toray Industries, Inc. | 6886 |
1 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2935 |
1 |
| 3D Glass Solutions, Inc. | 80 |
1 |
| Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. | 77 |
1 |
| Autres propriétaires | 16 |