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  • G - Physique
  • G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
  • G03F 7/025 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des triples liaisons carbone-carbone, p. ex. composés acétyléniques

Détention brevets de la classe G03F 7/025

Brevets de cette classe: 65

Historique des publications depuis 10 ans

4
4
5
10
5
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2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024 2025

Propriétaires principaux

Proprétaire
Total
Cette classe
Datalase Ltd.
111
11
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
5587
5
Lawrence Livermore National Security, LLC
1923
4
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
42036
3
JSR Corporation
2507
3
Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (epfl) Epfl-tto
13
3
HRL Laboratories, LLC
1598
3
Tokyo Electron Limited
12511
2
FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc.
317
2
Nissan Chemical Corporation
1967
2
DuPont Electronic Materials International, LLC
412
2
3m Innovative Properties Company
17842
1
Sony Corporation
31157
1
International Business Machines Corporation
60907
1
Samsung SDI Co., Ltd.
8005
1
Massachusetts Institute of Technology
10002
1
Toray Industries, Inc.
6886
1
Carl Zeiss SMT GmbH
2935
1
3D Glass Solutions, Inc.
80
1
Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd.
77
1
Autres propriétaires 16

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