- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/213 - Exposition simultanée avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface
Détention brevets de la classe G03F 7/213
Brevets de cette classe: 28
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 8019 |
3 |
| Applied Materials, Inc. | 20579 |
2 |
| Nikon Corporation | 7233 |
2 |
| Cymer, LLC | 416 |
2 |
| EV Group E. Thallner GmbH | 428 |
2 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 39087 |
1 |
| Huawei Technologies Co., Ltd. | 124837 |
1 |
| The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University | 6711 |
1 |
| Board of Regents, The University of Texas System | 6172 |
1 |
| The Arizona Board of Regents on Behalf of the University of Arizona | 2316 |
1 |
| Danmarks Tekniske Universitet | 1041 |
1 |
| Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (epfl) | 1618 |
1 |
| IMS Nanofabrication GmbH | 61 |
1 |
| National University of Singapore | 2605 |
1 |
| Nova Measuring Instruments Ltd. | 67 |
1 |
| Screen Holdings Co., Ltd. | 3245 |
1 |
| Ushio Denki Kabushiki Kaisha | 1210 |
1 |
| Xeikon Prepress NV | 24 |
1 |
| TERA-print, LLC | 14 |
1 |
| PlayNitride Display Co., Ltd. | 346 |
1 |
| Autres propriétaires | 2 |