- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/42 - Élimination des réserves ou agents à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/42
Brevets de cette classe: 1019
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13298 |
57 |
| FUJIFILM Corporation | 29992 |
53 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46420 |
45 |
| Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 154 |
32 |
| Versum Materials US, LLC | 656 |
32 |
| Screen Holdings Co., Ltd. | 2959 |
29 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1556 |
24 |
| Merck Patent GmbH | 5731 |
23 |
| BASF SE | 21111 |
20 |
| Nissan Chemical Corporation | 2124 |
19 |
| Entegris, Inc. | 1936 |
18 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1398 |
17 |
| Applied Materials, Inc. | 19502 |
16 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 32795 |
16 |
| Dow Global Technologies LLC | 10664 |
16 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3535 |
16 |
| LG Chem, Ltd. | 17706 |
15 |
| Lam Research Corporation | 5414 |
15 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42239 |
14 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 337 |
12 |
| Autres propriétaires | 530 |