- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/42 - Élimination des réserves ou agents à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/42
Brevets de cette classe: 1054
Historique des publications depuis 10 ans
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53
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13956 |
62 |
| FUJIFILM Corporation | 30774 |
56 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49027 |
46 |
| Versum Materials US, LLC | 681 |
33 |
| Screen Holdings Co., Ltd. | 3267 |
32 |
| Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 143 |
31 |
| Merck Patent GmbH | 5755 |
27 |
| BASF SE | 21318 |
23 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1557 |
23 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1453 |
22 |
| Dow Global Technologies LLC | 11051 |
21 |
| Nissan Chemical Corporation | 2294 |
21 |
| Entegris, Inc. | 2034 |
17 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3650 |
17 |
| Applied Materials, Inc. | 20601 |
16 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 34568 |
16 |
| LG Chem, Ltd. | 17978 |
15 |
| Lam Research Corporation | 5709 |
15 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44784 |
14 |
| Kao Corporation | 5105 |
13 |
| Autres propriétaires | 534 |