- Sections
- H - Électricité
- H01L - Dispositifs à semi-conducteurs non couverts par la classe
- H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
Détention brevets de la classe H01L 21/033
Brevets de cette classe: 4108
Historique des publications depuis 10 ans
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42118 |
756 |
Applied Materials, Inc. | 18406 |
333 |
Tokyo Electron Limited | 12540 |
319 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 144143 |
226 |
International Business Machines Corporation | 61023 |
172 |
Micron Technology, Inc. | 26209 |
168 |
Lam Research Corporation | 5187 |
162 |
Intel Corporation | 46699 |
137 |
United Microelectronics Corp. | 4224 |
109 |
Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation | 1774 |
74 |
Nanya Technology Corporation | 2383 |
73 |
ASM IP Holding B.V. | 2029 |
65 |
Kioxia Corporation | 10272 |
65 |
Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation | 1033 |
62 |
Changxin Memory Technologies, Inc. | 4926 |
61 |
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6431 |
59 |
Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc | 724 |
56 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5598 |
50 |
SK Hynix Inc. | 11222 |
44 |
Fujian Jinhua Integrated Circuit Co., Ltd. | 408 |
41 |
Autres propriétaires | 1076 |