- Sections
- H - Électricité
- H01L - Dispositifs à semi-conducteurs non couverts par la classe
- H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
Détention brevets de la classe H01L 21/033
Brevets de cette classe: 4208
Historique des publications depuis 10 ans
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210
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 44282 |
779 |
| Tokyo Electron Limited | 13013 |
347 |
| Applied Materials, Inc. | 19031 |
342 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148173 |
230 |
| International Business Machines Corporation | 61621 |
173 |
| Lam Research Corporation | 5332 |
170 |
| Micron Technology, Inc. | 26317 |
157 |
| Intel Corporation | 46937 |
136 |
| United Microelectronics Corp. | 4267 |
109 |
| Nanya Technology Corporation | 2601 |
77 |
| Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation | 1752 |
74 |
| ASM IP Holding B.V. | 2125 |
66 |
| Kioxia Corporation | 10440 |
66 |
| Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc | 800 |
63 |
| Changxin Memory Technologies, Inc. | 4929 |
63 |
| Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation | 1033 |
62 |
| GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6406 |
59 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5724 |
55 |
| SK Hynix Inc. | 11558 |
47 |
| Fujian Jinhua Integrated Circuit Co., Ltd. | 428 |
41 |
| Autres propriétaires | 1092 |