- Sections
- H - Électricité
- H01L - Dispositifs à semi-conducteurs non couverts par la classe
- H01L 21/383 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, dans ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductrices en utilisant la diffusion dans ou hors d'un solide, à partir d'une ou en phase gazeuse
Détention brevets de la classe H01L 21/383
Brevets de cette classe: 64
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 11649 |
17 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47071 |
12 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42854 |
5 |
| Magnolia White Corporation | 5526 |
4 |
| Destination 2D, Inc. | 24 |
3 |
| Intel Corporation | 46673 |
2 |
| Applied Materials, Inc. | 19938 |
2 |
| Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 2612 |
2 |
| Toyota Motor Corporation | 34387 |
1 |
| Sharp Corporation | 10436 |
1 |
| Infineon Technologies AG | 8380 |
1 |
| Tokyo Electron Limited | 13465 |
1 |
| The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University | 6593 |
1 |
| Lam Research Corporation | 5500 |
1 |
| National Taiwan University | 1295 |
1 |
| Bowling Green State University | 76 |
1 |
| Fudan University | 736 |
1 |
| National Chiao Tung University | 513 |
1 |
| OmniVision Technologies, Inc. | 1569 |
1 |
| Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. | 678 |
1 |
| Autres propriétaires | 5 |