- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 3/00 - Production ou accélération de faisceaux de particules neutres, p. ex. de faisceaux moléculaires ou atomiques
Détention brevets de la classe H05H 3/00
Brevets de cette classe: 69
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Tae Technologies, Inc. | 230 |
4 |
Thales | 1838 |
3 |
Honeywell International Inc. | 14022 |
2 |
Hitachi High-Tech Science Corporation | 323 |
2 |
Tokyo Electron Limited | 12127 |
2 |
The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University | 6257 |
2 |
Hamamatsu Photonics K.K. | 4307 |
2 |
Arizona Board of Regents, a Body Corporate of The State of Arizona Acting for and on Behalf of Arizona State University | 295 |
2 |
Eagle Technology, LLC | 353 |
2 |
Virgin Islands Microsystems, Inc. | 51 |
2 |
The Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences | 48 |
2 |
Shine Technologies, LLC | 114 |
2 |
Schlumberger Technology Corporation | 10284 |
1 |
The Boeing Company | 19915 |
1 |
Centre National de La Recherche Scientifique | 10124 |
1 |
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1250 |
1 |
ASML Netherlands B.V. | 7179 |
1 |
Northrop Grumman Guidance and Electronics Company, Inc. | 108 |
1 |
Novellus Systems, Inc. | 508 |
1 |
Thales SA | 2329 |
1 |
Autres propriétaires | 34 |