- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C09G - Compositions de produits à polirfarts
- C09G 1/02 - Compositions de produits à polir contenant des abrasifs ou agents de polissage
Détention brevets de la classe C09G 1/02
Brevets de cette classe: 2288
Historique des publications depuis 10 ans
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158
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212
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200
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192
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192
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197
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192
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101
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Fujimi Incorporated | 802 |
342 |
| CMC Materials LLC | 244 |
125 |
| Resonac Corporation | 3546 |
107 |
| Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 149 |
106 |
| Versum Materials US, LLC | 677 |
105 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 345 |
79 |
| BASF SE | 21308 |
73 |
| Entegris, Inc. | 2007 |
69 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48438 |
60 |
| DuPont Electronic Materials Holding, Inc. | 202 |
51 |
| Anji Microelectronics Technology (Shanghai) Co., Ltd. | 70 |
50 |
| K.C. Tech Co., Ltd. | 97 |
36 |
| JSR Corporation | 2558 |
35 |
| Cabot Microelectronics Corporation | 167 |
35 |
| Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | 806 |
35 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157946 |
32 |
| Ycchem Co., Ltd. | 66 |
30 |
| BASF (China) Co., Ltd. | 887 |
27 |
| Rhodia Operations | 1491 |
26 |
| FUJIFILM Corporation | 30516 |
25 |
| Autres propriétaires | 840 |