- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C09K - Substances pour des applications non prévues ailleursapplications de substances non prévues ailleurs
- C09K 13/00 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage
Détention brevets de la classe C09K 13/00
Brevets de cette classe: 735
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Resonac Corporation | 3561 |
28 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 346 |
26 |
| Versum Materials US, LLC | 677 |
26 |
| CMC Materials LLC | 244 |
25 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 158156 |
22 |
| Entegris, Inc. | 2009 |
22 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1431 |
19 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1565 |
18 |
| BASF SE | 21318 |
16 |
| FUJIFILM Corporation | 30543 |
16 |
| Tokyo Electron Limited | 13843 |
14 |
| ASM IP Holding B.V. | 2409 |
13 |
| Fujimi Incorporated | 804 |
13 |
| Tokuyama Corporation | 1482 |
13 |
| Ajou University Industry-academic Cooperation Foundation | 1182 |
12 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3631 |
12 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38721 |
11 |
| Central Glass Company, Limited | 1295 |
11 |
| Applied Materials, Inc. | 20438 |
9 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48490 |
9 |
| Autres propriétaires | 400 |