- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 5/54 - Dépôt électrochimique sur des surfaces non métalliques
Détention brevets de la classe C25D 5/54
Brevets de cette classe: 336
Historique des publications depuis 10 ans
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30
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26
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32
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8
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14
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20
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9
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Atotech Deutschland GmbH | 524 |
12 |
| Global Graphene Group, Inc. | 248 |
9 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48214 |
8 |
| Murata Manufacturing Co., Ltd. | 25708 |
7 |
| Stamford Devices Limited | 214 |
7 |
| The Boeing Company | 20153 |
6 |
| Applied Materials, Inc. | 20344 |
5 |
| MacDermid Acumen, Inc. | 148 |
5 |
| MacDermid Enthone Inc. | 247 |
5 |
| Technion Research & Development Foundation Ltd. | 1259 |
5 |
| C. Uyemura & Co., Ltd. | 161 |
4 |
| The Regents of the University of California | 20694 |
3 |
| Eastman Kodak Company | 2609 |
3 |
| Corning Incorporated | 10499 |
3 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 11126 |
3 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 435 |
3 |
| Christian-albrechts-universitat zu Kiel | 251 |
3 |
| Luxembourg Institute of Science and Technology (list) | 400 |
3 |
| General Electric Company | 13894 |
2 |
| Toshiba Corporation | 12551 |
2 |
| Autres propriétaires | 238 |