- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 5/54 - Dépôt électrochimique sur des surfaces non métalliques
Détention brevets de la classe C25D 5/54
Brevets de cette classe: 334
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Atotech Deutschland GmbH | 545 |
12 |
| Global Graphene Group, Inc. | 248 |
9 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46507 |
8 |
| Murata Manufacturing Co., Ltd. | 25214 |
7 |
| The Boeing Company | 20101 |
6 |
| Stamford Devices Limited | 185 |
6 |
| Applied Materials, Inc. | 19577 |
5 |
| MacDermid Acumen, Inc. | 152 |
5 |
| MacDermid Enthone Inc. | 242 |
5 |
| Technion Research & Development Foundation Ltd. | 1247 |
5 |
| C. Uyemura & Co., Ltd. | 161 |
4 |
| Luxembourg Institute of Science and Technology (list) | 393 |
4 |
| The Regents of the University of California | 20355 |
3 |
| Eastman Kodak Company | 2752 |
3 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10977 |
3 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 376 |
3 |
| Alchimer | 41 |
3 |
| General Electric Company | 13767 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17741 |
2 |
| Toshiba Corporation | 12532 |
2 |
| Autres propriétaires | 237 |