- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 5/54 - Dépôt électrochimique sur des surfaces non métalliques
Détention brevets de la classe C25D 5/54
Brevets de cette classe: 321
Historique des publications depuis 10 ans
|
43
|
30
|
26
|
32
|
32
|
8
|
14
|
24
|
31
|
8
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Atotech Deutschland GmbH | 556 |
12 |
| Global Graphene Group, Inc. | 247 |
9 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42549 |
8 |
| Murata Manufacturing Co., Ltd. | 24478 |
7 |
| The Boeing Company | 20048 |
6 |
| Alchimer | 51 |
6 |
| Stamford Devices Limited | 169 |
6 |
| Applied Materials, Inc. | 18565 |
5 |
| MacDermid Acumen, Inc. | 155 |
5 |
| MacDermid Enthone Inc. | 238 |
5 |
| C. Uyemura & Co., Ltd. | 163 |
4 |
| Luxembourg Institute of Science and Technology (list) | 383 |
4 |
| Technion Research & Development Foundation Ltd. | 1215 |
4 |
| The Regents of the University of California | 19887 |
3 |
| Eastman Kodak Company | 2903 |
3 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 10928 |
3 |
| General Electric Company | 13762 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17615 |
2 |
| Toshiba Corporation | 12326 |
2 |
| Intel Corporation | 46960 |
2 |
| Autres propriétaires | 223 |