- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/20 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p. ex. par faisceau d'électronsLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/20
Brevets de cette classe: 160
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| D2s, Inc. | 199 |
36 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48760 |
15 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6134 |
10 |
| Hoya Corporation | 2690 |
10 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 158842 |
7 |
| FUJIFILM Corporation | 30653 |
5 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 39012 |
3 |
| DTS, Inc. | 379 |
3 |
| Nippon Control System Corporation | 19 |
3 |
| 3m Innovative Properties Company | 17445 |
2 |
| Intel Corporation | 46449 |
2 |
| Applied Materials, Inc. | 20552 |
2 |
| Tokyo Electron Limited | 13920 |
2 |
| Microsoft Technology Licensing, LLC | 54554 |
2 |
| Advantest Corporation | 1672 |
2 |
| KLA-Tencor Corporation | 2517 |
2 |
| Mellanox Technologies Ltd. | 1682 |
2 |
| NuFlare Technology, Inc. | 927 |
2 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1561 |
2 |
| University of Copenhagen | 441 |
2 |
| Autres propriétaires | 46 |