- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/62 - Pellicules, p. ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de supportLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/62
Brevets de cette classe: 681
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7939 |
169 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48438 |
99 |
| Mitsui Chemicals, Inc. | 3242 |
58 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6109 |
52 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157946 |
38 |
| Fine Semitech Corp. | 31 |
13 |
| ASML Holding N.V. | 487 |
12 |
| IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | 1659 |
11 |
| IMEC VZW | 1816 |
10 |
| Korea Electronics Technology Institute | 1803 |
10 |
| Lintec of America, Inc. | 160 |
10 |
| NGK Insulators, Ltd. | 5239 |
9 |
| Photronics, Inc. | 44 |
9 |
| Applied Materials, Inc. | 20406 |
8 |
| Lintec Corporation | 2014 |
8 |
| Research & Business Foundation Sungkyunkwan University | 2175 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8968 |
7 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3339 |
7 |
| International Business Machines Corporation | 62671 |
6 |
| Air Water Inc. | 168 |
6 |
| Autres propriétaires | 131 |