- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/62 - Pellicules, p. ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de supportLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/62
Brevets de cette classe: 654
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7615 |
163 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46308 |
94 |
| Mitsui Chemicals, Inc. | 3233 |
56 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5823 |
48 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 149838 |
38 |
| Fine Semitech Corp. | 28 |
13 |
| ASML Holding N.V. | 496 |
12 |
| IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | 1476 |
11 |
| IMEC VZW | 1701 |
10 |
| Korea Electronics Technology Institute | 1677 |
10 |
| NGK Insulators, Ltd. | 5161 |
9 |
| Lintec of America, Inc. | 159 |
9 |
| Photronics, Inc. | 43 |
9 |
| Applied Materials, Inc. | 19391 |
8 |
| Research & Business Foundation Sungkyunkwan University | 2037 |
8 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3117 |
7 |
| Lintec Corporation | 1992 |
7 |
| International Business Machines Corporation | 61840 |
6 |
| Air Water Inc. | 145 |
6 |
| GrapheneLab.Co.,Ltd. | 13 |
6 |
| Autres propriétaires | 124 |