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• G - Physique
• G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
• G03F 1/78 - Création des motifs d'un masque par imagerie par un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam], p. ex. création des motifs d'un masque par un faisceau d'électrons

Détention brevets de la classe G03F 1/78

Brevets de cette classe: 149

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