- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p. ex. préchauffage
Détention brevets de la classe G03F 7/38
Brevets de cette classe: 1442
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6148 |
183 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49027 |
132 |
| FUJIFILM Corporation | 30774 |
129 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8989 |
116 |
| Tokyo Electron Limited | 13956 |
90 |
| JSR Corporation | 2559 |
63 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1557 |
61 |
| Applied Materials, Inc. | 20601 |
51 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 159298 |
28 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 432 |
28 |
| Merck Patent GmbH | 5755 |
27 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 266 |
27 |
| Lam Research Corporation | 5709 |
24 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1629 |
24 |
| International Business Machines Corporation | 62847 |
18 |
| Inpria Corporation | 146 |
18 |
| Carbon, Inc. | 418 |
18 |
| Nissan Chemical Corporation | 2294 |
17 |
| Central Glass Company, Limited | 1297 |
15 |
| Osaka University | 3252 |
11 |
| Autres propriétaires | 362 |