- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p. ex. préchauffage
Détention brevets de la classe G03F 7/38
Brevets de cette classe: 1433
Historique des publications depuis 10 ans
|
154
|
149
|
151
|
109
|
87
|
108
|
82
|
66
|
76
|
41
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6083 |
184 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48248 |
131 |
| FUJIFILM Corporation | 30512 |
128 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8996 |
116 |
| Tokyo Electron Limited | 13796 |
86 |
| JSR Corporation | 2555 |
64 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1560 |
61 |
| Applied Materials, Inc. | 20363 |
51 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157557 |
28 |
| Merck Patent GmbH | 5725 |
28 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 426 |
27 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 275 |
27 |
| Lam Research Corporation | 5621 |
24 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1646 |
24 |
| International Business Machines Corporation | 62621 |
18 |
| Inpria Corporation | 144 |
18 |
| Carbon, Inc. | 415 |
18 |
| Nissan Chemical Corporation | 2218 |
16 |
| Central Glass Company, Limited | 1291 |
15 |
| Osaka University | 3269 |
11 |
| Autres propriétaires | 358 |