- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
Détention brevets de la classe G03F 7/40
Brevets de cette classe: 2484
Historique des publications depuis 10 ans
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266
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188
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198
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150
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146
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181
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115
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115
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136
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71
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
340 |
| Tokyo Electron Limited | 13807 |
152 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48302 |
128 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6096 |
122 |
| JSR Corporation | 2554 |
111 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1562 |
98 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1645 |
71 |
| Merck Patent GmbH | 5728 |
67 |
| Nissan Chemical Corporation | 2227 |
64 |
| Toray Industries, Inc. | 7113 |
63 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157719 |
56 |
| Applied Materials, Inc. | 20375 |
42 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 426 |
35 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 275 |
27 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38627 |
26 |
| Resonac Corporation | 3530 |
26 |
| Lam Research Corporation | 5635 |
25 |
| Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. | 58 |
25 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3622 |
24 |
| International Business Machines Corporation | 62634 |
22 |
| Autres propriétaires | 960 |