- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
Détention brevets de la classe G03F 7/40
Brevets de cette classe: 2427
Historique des publications depuis 10 ans
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265
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188
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196
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149
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179
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113
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114
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136
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41
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30210 |
339 |
| Tokyo Electron Limited | 13513 |
147 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47211 |
125 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5933 |
121 |
| JSR Corporation | 2540 |
114 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1544 |
99 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1666 |
71 |
| Merck Patent GmbH | 5662 |
66 |
| Nissan Chemical Corporation | 2155 |
63 |
| Toray Industries, Inc. | 7036 |
62 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 153573 |
56 |
| Applied Materials, Inc. | 19999 |
38 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 425 |
35 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 37753 |
26 |
| Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. | 59 |
25 |
| Lam Research Corporation | 5520 |
24 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3586 |
24 |
| International Business Machines Corporation | 62182 |
23 |
| Resonac Corporation | 3198 |
23 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 9793 |
22 |
| Autres propriétaires | 924 |