- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage
Détention brevets de la classe G03F 7/40
Brevets de cette classe: 2350
Historique des publications depuis 10 ans
247
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266
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188
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146
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178
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113
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108
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65
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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FUJIFILM Corporation | 29208 |
332 |
Tokyo Electron Limited | 12511 |
133 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42036 |
120 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5587 |
118 |
JSR Corporation | 2507 |
116 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1532 |
105 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1729 |
72 |
Toray Industries, Inc. | 6886 |
62 |
Merck Patent GmbH | 5840 |
60 |
Nissan Chemical Corporation | 1967 |
58 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 143812 |
47 |
DuPont Electronic Materials International, LLC | 412 |
35 |
Applied Materials, Inc. | 18383 |
27 |
Samsung Display Co., Ltd. | 34170 |
26 |
Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. | 65 |
25 |
International Business Machines Corporation | 60907 |
23 |
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3431 |
23 |
Resonac Corporation | 2656 |
23 |
Asahi Kasei E-materials Corporation | 205 |
22 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 8005 |
21 |
Autres propriétaires | 902 |