- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C23F - Enlèvement non mécanique de matériau métallique des surfacesmoyens pour empêcher la corrosion des matériaux métalliquesmoyens pour empêcher l'entartrage ou les incrustations, en généralprocédés à étapes multiples pour le traitement de surface de matériaux métalliques utilisant au moins un procédé couvert par la classe et au moins un procédé couvert soit par la sous-classe , soit par la sous-classe , soit par la classe
- C23F 1/10 - Compositions de décapage
Détention brevets de la classe C23F 1/10
Brevets de cette classe: 81
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 333 |
10 |
Samsung Display Co., Ltd. | 35374 |
5 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 43628 |
4 |
Central Glass Company, Limited | 1273 |
4 |
DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1364 |
3 |
Queen's University at Kingston | 538 |
3 |
University Court of The University of ST Andrews | 318 |
3 |
FUJIFILM Corporation | 29696 |
2 |
Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 32052 |
2 |
Element Six Abrasives S.A. | 147 |
2 |
OCI Company Ltd. | 157 |
2 |
Soulbrain Co., Ltd. | 254 |
2 |
General Electric Company | 13858 |
1 |
Toshiba Corporation | 12500 |
1 |
Applied Materials, Inc. | 18932 |
1 |
Tokyo Electron Limited | 12979 |
1 |
Cheil Industries Inc. | 847 |
1 |
Macronix International Co., Ltd. | 2548 |
1 |
PPG Industries Ohio, Inc. | 3444 |
1 |
Ebara Corporation | 2189 |
1 |
Autres propriétaires | 31 |