- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C23F - Enlèvement non mécanique de matériau métallique des surfacesmoyens pour empêcher la corrosion des matériaux métalliquesmoyens pour empêcher l'entartrage ou les incrustations, en généralprocédés à étapes multiples pour le traitement de surface de matériaux métalliques utilisant au moins un procédé couvert par la classe et au moins un procédé couvert soit par la sous-classe , soit par la sous-classe , soit par la classe
- C23F 1/12 - Compositions gazeuses
Détention brevets de la classe C23F 1/12
Brevets de cette classe: 203
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13523 |
24 |
| ASM IP Holding B.V. | 2291 |
22 |
| Applied Materials, Inc. | 20036 |
20 |
| Central Glass Company, Limited | 1284 |
12 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47319 |
7 |
| Lam Research Corporation | 5528 |
5 |
| Beijing NMC Co., Ltd. | 112 |
5 |
| The Regents of the University of Colorado, a body corporate | 2772 |
4 |
| Beijing E-town Semiconductor Technology, Co., Ltd | 299 |
4 |
| Resonac Corporation | 3210 |
4 |
| BASF SE | 21113 |
3 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10865 |
3 |
| Showa Denko K.K. | 2098 |
3 |
| National Oilwell Varco, L.P. | 1690 |
3 |
| Versum Materials US, LLC | 667 |
3 |
| Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc | 873 |
3 |
| Hitachi High-Tech Corporation | 5654 |
3 |
| Heraeus Electronics GmbH & Co. KG | 111 |
3 |
| Merck Patent GmbH | 5668 |
2 |
| Robert Bosch GmbH | 43587 |
2 |
| Autres propriétaires | 68 |