- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/80 - Attaque chimique
Détention brevets de la classe G03F 1/80
Brevets de cette classe: 459
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49884 |
77 |
| Hoya Corporation | 2401 |
67 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6203 |
35 |
| Applied Materials, Inc. | 20764 |
30 |
| Agc, Inc. | 5722 |
22 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 160170 |
16 |
| Tokyo Electron Limited | 14081 |
11 |
| Kioxia Corporation | 11039 |
11 |
| Lam Research Corporation | 5762 |
10 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 39441 |
8 |
| ASML Netherlands B.V. | 8062 |
7 |
| LG Chem, Ltd. | 18010 |
6 |
| International Business Machines Corporation | 62935 |
6 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3392 |
6 |
| Tekscend Photomask Corp. | 35 |
6 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44876 |
5 |
| S&S Tech Co., Ltd. | 35 |
5 |
| Accelerated Neutral Atom Beam Holdings, Inc. | 28 |
5 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 4306 |
4 |
| The Regents of the University of California | 21018 |
3 |
| Autres propriétaires | 119 |