- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/80 - Attaque chimique
Détention brevets de la classe G03F 1/80
Brevets de cette classe: 449
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48073 |
74 |
| Hoya Corporation | 2723 |
66 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6037 |
35 |
| Applied Materials, Inc. | 20300 |
30 |
| Agc, Inc. | 5459 |
22 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 156823 |
15 |
| Tokyo Electron Limited | 13722 |
11 |
| Lam Research Corporation | 5592 |
10 |
| Kioxia Corporation | 10781 |
10 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38400 |
8 |
| ASML Netherlands B.V. | 7864 |
7 |
| Exogenesis Corporation | 68 |
7 |
| LG Chem, Ltd. | 17920 |
6 |
| International Business Machines Corporation | 62517 |
6 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3283 |
6 |
| Tekscend Photomask Corp. | 33 |
6 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 43816 |
5 |
| S&S Tech Co., Ltd. | 33 |
5 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 4224 |
4 |
| The Regents of the University of California | 20669 |
3 |
| Autres propriétaires | 113 |