- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/00
Brevets de cette classe: 12262
Historique des publications depuis 10 ans
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591
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1040
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1146
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980
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7925 |
1425 |
| Canon Inc. | 43817 |
839 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48302 |
639 |
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
630 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3332 |
628 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157719 |
312 |
| Applied Materials, Inc. | 20375 |
254 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6096 |
193 |
| Tokyo Electron Limited | 13807 |
179 |
| KLA Corporation | 1849 |
178 |
| Kioxia Corporation | 10815 |
172 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10589 |
156 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44029 |
152 |
| Gigaphoton Inc. | 1326 |
125 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38627 |
109 |
| LG Chem, Ltd. | 17921 |
109 |
| Molecular Imprints, Inc. | 231 |
106 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1562 |
94 |
| Cymer, LLC | 414 |
84 |
| Nikon Corporation | 7228 |
82 |
| Autres propriétaires | 5796 |