- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/00
Brevets de cette classe: 10065
Historique des publications depuis 10 ans
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2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 7291 |
954 |
Canon Inc. | 39206 |
711 |
FUJIFILM Corporation | 29172 |
632 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 41903 |
456 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2926 |
346 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 143303 |
207 |
Applied Materials, Inc. | 18334 |
199 |
Kioxia Corporation | 10259 |
161 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 40416 |
150 |
Tokyo Electron Limited | 12452 |
127 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 7894 |
127 |
LG Chem, Ltd. | 17526 |
112 |
Molecular Imprints, Inc. | 271 |
106 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5577 |
104 |
KLA Corporation | 1496 |
103 |
Samsung Display Co., Ltd. | 34061 |
99 |
Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 812 |
88 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1526 |
76 |
Micron Technology, Inc. | 26167 |
72 |
Gigaphoton Inc. | 1209 |
67 |
Autres propriétaires | 5168 |