- Sections
- H - Électricité
- H05G - Technique des rayons x
- H05G 2/00 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p. ex. utilisant la génération d'un plasma
Détention brevets de la classe H05G 2/00
Brevets de cette classe: 2112
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7516 |
555 |
| Gigaphoton Inc. | 1254 |
461 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 44433 |
204 |
| Ushio Denki Kabushiki Kaisha | 1197 |
89 |
| TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH | 94 |
47 |
| KLA-Tencor Corporation | 2542 |
44 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3057 |
43 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148402 |
39 |
| KLA Corporation | 1623 |
31 |
| Imagine Scientific, Inc. | 24 |
15 |
| Excillum AB | 72 |
14 |
| Hamamatsu Photonics K.K. | 4464 |
13 |
| Lawrence Livermore National Security, LLC | 1941 |
13 |
| Koninklijke Philips Electronics N.V. | 9058 |
12 |
| Philips Intellectual Property & Standards GmbH | 1849 |
12 |
| Eth Zurich | 1297 |
11 |
| IHI Corporation | 3458 |
10 |
| Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation | 1754 |
9 |
| Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | 6121 |
9 |
| Universiteit Van Amsterdam | 106 |
8 |
| Autres propriétaires | 473 |