- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/46 - Production du plasma utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p. ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Détention brevets de la classe H05H 1/46
Brevets de cette classe: 3037
Historique des publications depuis 10 ans
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202
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13824 |
728 |
| Applied Materials, Inc. | 20406 |
200 |
| Lam Research Corporation | 5642 |
112 |
| Nissin Electric Co., Ltd. | 272 |
80 |
| Hitachi High-Tech Corporation | 5857 |
46 |
| ULVAC, Inc. | 1343 |
44 |
| Tohoku University | 2981 |
38 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 480 |
33 |
| Kokusai Electric Corporation | 2230 |
32 |
| Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd. | 183 |
31 |
| Canon Anelva Corporation | 684 |
30 |
| MKS Instruments, Inc. | 549 |
28 |
| Hitachi Kokusai Electric Inc. | 831 |
26 |
| AES Global Holdings, Pte. Ltd. | 402 |
25 |
| Daihen Corporation | 495 |
22 |
| National University Corporation Nagoya University | 784 |
19 |
| Sharp Kabushiki Kaisha | 18523 |
19 |
| Plasmology4, Inc. | 47 |
18 |
| Shimadzu Corporation | 6347 |
16 |
| EMD Corporation | 27 |
16 |
| Autres propriétaires | 1474 |