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  • C - Chimiemétallurgie
  • C23C - Revêtement de matériaux métalliquesrevêtement de matériaux avec des matériaux métalliquestraitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitutionrevêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
  • C23C 16/24 - Dépôt uniquement de silicium

Détention brevets de la classe C23C 16/24

Brevets de cette classe: 1009

Historique des publications depuis 10 ans

77
86
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59
64
89
68
91
50
2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023 2024 2025 2026

Propriétaires principaux

Proprétaire
Total
Cette classe
Applied Materials, Inc.
20375
104
Tokyo Electron Limited
13807
74
Sumco Corporation
1111
43
Kokusai Electric Corporation
2226
42
ASM IP Holding B.V.
2397
38
Wacker Chemie AG
2112
31
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
6096
23
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
1307
18
Lam Research Corporation
5635
17
L'Air Liquide, Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude
4117
16
Nexeon Limited
182
16
Silcotek Corp.
73
15
Group14 Technologies, Inc.
120
12
Versum Materials US, LLC
678
12
Agilent Technologies, Inc.
2634
11
Tokuyama Corporation
1477
9
QROMIS, Inc.
97
9
Samsung Electronics Co., Ltd.
157719
8
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
48302
8
American Air Liquide, Inc.
267
8
Autres propriétaires 495

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