- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 3/02 - Dépôt électrochimiqueBains utilisés à partir de solutions
Détention brevets de la classe C25D 3/02
Brevets de cette classe: 200
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| BASF SE | 20915 |
13 |
| MacDermid Enthone Inc. | 239 |
9 |
| Duksan High Metal Co., Ltd. | 60 |
5 |
| Ebara Corporation | 2172 |
4 |
| Ymt Co., Ltd. | 33 |
4 |
| Rtx Corporation | 9385 |
4 |
| Huawei Technologies Co., Ltd. | 112690 |
3 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 319 |
3 |
| Fabric8Labs, Inc. | 56 |
3 |
| GRU Energy Lab Inc. | 16 |
3 |
| Ningbo Anji Microelectronics Technology Co., Ltd | 7 |
3 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 429 |
3 |
| Baker Hughes Incorporated | 5241 |
2 |
| The Regents of the University of California | 19929 |
2 |
| Applied Materials, Inc. | 18658 |
2 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 42804 |
2 |
| Asia Electronic Material Co., Ltd. | 9 |
2 |
| Atotech Deutschland GmbH | 556 |
2 |
| Carbodeon Ltd Oy | 27 |
2 |
| College de France | 121 |
2 |
| Autres propriétaires | 127 |