- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
Détention brevets de la classe G03F 1/82
Brevets de cette classe: 346
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48248 |
91 |
| ASML Netherlands B.V. | 7906 |
29 |
| Applied Materials, Inc. | 20363 |
18 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3328 |
16 |
| Suss MicroTec Photomask Equipment GmbH & Co. KG | 24 |
14 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6083 |
13 |
| Bruker Nano, Inc. | 381 |
13 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157557 |
11 |
| Hoya Corporation | 2719 |
10 |
| Exogenesis Corporation | 68 |
8 |
| Screen Holdings Co., Ltd. | 3148 |
8 |
| Agc, Inc. | 5502 |
7 |
| International Business Machines Corporation | 62621 |
5 |
| Photronics, Inc. | 44 |
5 |
| Tokyo Electron Limited | 13796 |
4 |
| Semes Co., Ltd. | 1677 |
4 |
| Shibaura Mechatronics Corporation | 297 |
4 |
| Gudeng Equipment Co., Ltd. | 28 |
4 |
| Luminamask Co., Ltd. | 29 |
4 |
| Kioxia Corporation | 10805 |
3 |
| Autres propriétaires | 75 |