- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/20
Brevets de cette classe: 21223
Historique des publications depuis 10 ans
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1798
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1984
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2146
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1985
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1634
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1515
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1264
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903
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858
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199
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7710 |
3875 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3201 |
1744 |
| Nikon Corporation | 7237 |
1098 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47071 |
1079 |
| FUJIFILM Corporation | 30206 |
1019 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5918 |
506 |
| JSR Corporation | 2548 |
438 |
| Applied Materials, Inc. | 19938 |
410 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1542 |
382 |
| Canon Inc. | 42139 |
369 |
| Gigaphoton Inc. | 1298 |
348 |
| KLA-Tencor Corporation | 2524 |
348 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 153093 |
329 |
| ASML Holding N.V. | 488 |
326 |
| Tokyo Electron Limited | 13465 |
321 |
| Nissan Chemical Corporation | 2145 |
199 |
| KLA Corporation | 1781 |
197 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42854 |
153 |
| Carl Zeiss SMT AG | 166 |
144 |
| Hoya Corporation | 2738 |
132 |
| Autres propriétaires | 7806 |