- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliquesrevêtement de matériaux avec des matériaux métalliquestraitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitutionrevêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD]
Détention brevets de la classe C23C 16/00
Brevets de cette classe: 2572
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 13336 |
285 |
| Applied Materials, Inc. | 19577 |
258 |
| Lam Research Corporation | 5429 |
146 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 37127 |
71 |
| Kokusai Electric Corporation | 2149 |
61 |
| ASM IP Holding B.V. | 2216 |
43 |
| Micron Technology, Inc. | 27174 |
26 |
| Rtx Corporation | 9737 |
26 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 151017 |
22 |
| Canon Anelva Corporation | 690 |
20 |
| Versum Materials US, LLC | 658 |
20 |
| Hitachi High-Tech Corporation | 5564 |
20 |
| Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | 4007 |
19 |
| Tsinghua University | 6062 |
19 |
| Novellus Systems, Inc. | 466 |
16 |
| NGK Insulators, Ltd. | 5192 |
15 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42421 |
15 |
| ASM Japan K.K. | 82 |
15 |
| Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1214 |
13 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46507 |
13 |
| Autres propriétaires | 1449 |