- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p. ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/22
Brevets de cette classe: 682
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48302 |
179 |
| Applied Materials, Inc. | 20375 |
63 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157719 |
46 |
| ASML Netherlands B.V. | 7925 |
35 |
| Hoya Corporation | 2721 |
34 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3332 |
30 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6096 |
27 |
| Agc, Inc. | 5524 |
16 |
| KLA Corporation | 1849 |
12 |
| Intel Corporation | 47106 |
11 |
| Fine Semitech Corp. | 31 |
10 |
| Gigaphoton Inc. | 1326 |
10 |
| KLA-Tencor Corporation | 2518 |
10 |
| Lam Research Corporation | 5635 |
9 |
| International Business Machines Corporation | 62634 |
7 |
| Tokyo Electron Limited | 13807 |
7 |
| ASML Holding N.V. | 487 |
7 |
| GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6387 |
7 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38627 |
6 |
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
6 |
| Autres propriétaires | 150 |