- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/22 - Masques ou masques vierges d'imagerie par rayonnement d'une longueur d'onde de 100 nm ou moins, p. ex. masques pour rayons X, masques en extrême ultra violet [EUV]Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/22
Brevets de cette classe: 648
Historique des publications depuis 10 ans
|
53
|
48
|
54
|
83
|
49
|
47
|
54
|
36
|
40
|
9
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 46507 |
171 |
| Applied Materials, Inc. | 19577 |
63 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 151017 |
45 |
| Hoya Corporation | 2756 |
34 |
| ASML Netherlands B.V. | 7649 |
33 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3146 |
26 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5842 |
25 |
| Agc, Inc. | 5129 |
16 |
| Fine Semitech Corp. | 28 |
10 |
| KLA-Tencor Corporation | 2525 |
10 |
| Intel Corporation | 46576 |
9 |
| Lam Research Corporation | 5429 |
9 |
| KLA Corporation | 1721 |
9 |
| International Business Machines Corporation | 61904 |
7 |
| ASML Holding N.V. | 495 |
7 |
| GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6404 |
7 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 37127 |
6 |
| FUJIFILM Corporation | 30010 |
6 |
| Tokyo Electron Limited | 13336 |
6 |
| Gigaphoton Inc. | 1282 |
6 |
| Autres propriétaires | 143 |