- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p. ex. automatique
Détention brevets de la classe G03F 9/00
Brevets de cette classe: 2637
Historique des publications depuis 10 ans
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189
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130
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95
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ASML Netherlands B.V. | 7925 |
841 |
| Canon Inc. | 43817 |
255 |
| Nikon Corporation | 7228 |
167 |
| ASML Holding N.V. | 487 |
125 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48302 |
106 |
| Applied Materials, Inc. | 20375 |
53 |
| Kioxia Corporation | 10815 |
48 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 3332 |
36 |
| KLA-Tencor Corporation | 2518 |
32 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157719 |
29 |
| Changxin Memory Technologies, Inc. | 4933 |
29 |
| Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | 192 |
28 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44029 |
26 |
| KLA Corporation | 1849 |
22 |
| V Technology Co., Ltd. | 380 |
21 |
| Onto Innovation Inc. | 399 |
19 |
| Micronic Mydata AB | 73 |
16 |
| Molecular Imprints, Inc. | 231 |
15 |
| AMIES Technology Co., Ltd. | 68 |
15 |
| Tokyo Electron Limited | 13807 |
14 |
| Autres propriétaires | 740 |