- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliquesrevêtement de matériaux avec des matériaux métalliquestraitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitutionrevêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/50 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques
Détention brevets de la classe C23C 16/50
Brevets de cette classe: 2353
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Applied Materials, Inc. | 20406 |
390 |
| Lam Research Corporation | 5642 |
209 |
| Tokyo Electron Limited | 13824 |
184 |
| ASM IP Holding B.V. | 2401 |
91 |
| Kokusai Electric Corporation | 2230 |
64 |
| Versum Materials US, LLC | 677 |
50 |
| Jiangsu Favored Nanotechnology Co., LTD | 170 |
44 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48438 |
43 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157946 |
34 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38676 |
30 |
| Sio2 Medical Products, LLC | 109 |
22 |
| SK Tri Chem Co., Ltd. | 36 |
18 |
| Novellus Systems, Inc. | 452 |
17 |
| Jusung Engineering Co., Ltd. | 492 |
17 |
| FUJIFILM Corporation | 30516 |
16 |
| L'Air Liquide, Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude | 4118 |
16 |
| Konica Minolta, Inc. | 9125 |
15 |
| AGC Glass Europe | 1180 |
13 |
| Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | 1187 |
12 |
| Dnf Co.,Ltd. | 84 |
11 |
| Autres propriétaires | 1057 |