- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 7/12 - Semi-conducteurs
Détention brevets de la classe C25D 7/12
Brevets de cette classe: 1180
Historique des publications depuis 10 ans
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110
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104
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125
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76
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81
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92
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103
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80
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102
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31
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Lam Research Corporation | 5563 |
111 |
| Ebara Corporation | 2278 |
104 |
| Applied Materials, Inc. | 20191 |
96 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47782 |
59 |
| Novellus Systems, Inc. | 455 |
53 |
| BASF SE | 21171 |
48 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 418 |
35 |
| Atotech Deutschland GmbH | 528 |
32 |
| MacDermid Enthone Inc. | 244 |
32 |
| Tokyo Electron Limited | 13642 |
26 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 423 |
22 |
| International Business Machines Corporation | 62353 |
17 |
| Texas Instruments Incorporated | 19628 |
15 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 155524 |
12 |
| Alchimer | 37 |
12 |
| Centre de Recherche Public - Gabriel Lippmann | 20 |
12 |
| Aveni | 20 |
10 |
| Semsysco GmbH | 62 |
9 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8286 |
8 |
| Mitsubishi Materials Corporation | 2463 |
8 |
| Autres propriétaires | 459 |