- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 7/12 - Semi-conducteurs
Détention brevets de la classe C25D 7/12
Brevets de cette classe: 1195
Historique des publications depuis 10 ans
|
110
|
104
|
125
|
76
|
81
|
92
|
103
|
80
|
103
|
45
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Lam Research Corporation | 5635 |
113 |
| Ebara Corporation | 2323 |
108 |
| Applied Materials, Inc. | 20375 |
97 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48302 |
60 |
| Novellus Systems, Inc. | 452 |
53 |
| BASF SE | 21303 |
48 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 439 |
37 |
| MacDermid Enthone Inc. | 249 |
33 |
| Atotech Deutschland GmbH | 524 |
32 |
| Tokyo Electron Limited | 13807 |
27 |
| DuPont Electronic Materials International, LLC | 426 |
22 |
| International Business Machines Corporation | 62634 |
17 |
| Texas Instruments Incorporated | 19672 |
15 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 157719 |
13 |
| Alchimer | 37 |
12 |
| Centre de Recherche Public - Gabriel Lippmann | 20 |
12 |
| Aveni | 20 |
10 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8466 |
8 |
| Mitsubishi Materials Corporation | 2472 |
8 |
| Lam Research Salzburg GmbH | 36 |
8 |
| Autres propriétaires | 462 |